富士フイルム、フォトレジスト拡充－生産能力５０％増強、半導体微細化追い風

富士フイルムは最先端の半導体生産に使われるフォトレジストの生産能力を現状比５０％増強する。富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズの静岡工場（静岡県吉田町）に、フッ化アルゴン（ＡｒＦ）用レジストの調合タンクやフィルターを含む充填設備を新設する。２０１７年度末をめどに稼働し、需要に合わせて生産量を増やしていく。投資額は約１０億円。半導体で続く微細化要求を追い風に、アジア・欧米市場を深耕する。

フォトレジストはシリコンウエハーに回路パターンを焼き付ける感光性樹脂。富士フイルムが増産するＡｒＦ用は、微細化で主流のマルチパターニング（複数回露光）で使う。フォトレジストの塗布や露光、エッチングといった工程を繰り返すことで素子や配線を集積するため、高機能・低コスト化が進む最先端半導体の需要増に合わせた伸びを見込めると判断した。

ＡｒＦ用フォトレジストの調合タンクなど新設備は静岡工場の既存建屋に...