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（2022/9/5）
カテゴリ：商品サービス
リリース発行企業：キヤノン株式会社
キヤノンは、50年以上にわたって培ってきた半導体露光装置のサポートノウハウと、露光工程を含む半導体製造に関する膨大なデータを統合することで、サポート業務の効率化と、最適なプロセスの提案を実現するソリューションプラットフォーム “Lithography Plus（リソグラフィ プラス）（※１）”のサービス提供を2022年9月5日より開始します。
キヤノンは高い処理能力を誇るKrF半導体露光装置や、多様なデバイスに対応するi線半導体露光装置のラインアップを展開しており、これらの露光装置を導入したユーザーのサポートに長年取り組んできました。“Lithography Plus”は、これまでに蓄積したノウハウやデータを統合的に活用しソリューションを創出するプラットフォームで、サポート業務を効率化すると同時に、露光装置の稼働率を高め、ユーザーの生産性向上に貢献します。
1. 半導体露光装置のサポート業務を効率化
露光装置の状態を分析する機能や定期メンテナンス結果を分析する機能、装置が停止した要因を分析する機能を搭載しています。装置を操作するオペレーターは、これらのデータに基づき、部品交換やメンテナンス等の装置運用計画を容易に作成することができ、露光装置の適切な品質管理が可能です。また、工場内の複数の露光装置データを俯瞰表示する「Dash Board」機能を搭載し、オペレーターのメンテナンス業務をさらに効率化します。
2. 半導体露光装置の高稼働率を実現する機能を搭載
露光装置の状態を監視し、異常発生や予兆を検知する「異常検知」機能で、装置の停止を防止します。さらに、「自動復帰」機能により、復旧作業を支援します。自動復帰できない場合は、装置状態を分析し、復旧方法をわかりやすく記載した復旧手順書を提示することで、スムーズな復帰が可能です。また、キヤノンのエキスパートエンジニアがリモートで装置状態を共有・把握し、オペレーターからの問い合わせにきめ細かく応えるリモートコンシェルジュサービスも提供します。
3. レシピ（※2）最適化機能の搭載による高い歩留まり（※3）の実現を支援
これまでにキヤノンが培ってきた露光装置の最適化事例を凝縮しレシピを最適化する「プロセスソリューション」機能を搭載しています。精緻な位置合わせや線幅制御設定が自動で最適化されたレシピを提供することで、新しい半導体プロセス投入の初期から高い歩留まりの実現を支援します。さらに、APC（※4）などのプロセス機器とのインターフェースも備えており、生産管理システムとの連係動作が可能です。
※1. 仕様についてはホームページをご覧ください。https://global.canon/ja/product/indtech/semicon/
※2. デバイスや製造工程ごとに異なる製品の製造条件。
※3. 生産された製品のうち良品の割合。
※4. Advanced Process Control : 最適な処理条件をロット毎に指示する仕組み。前回結果からの反映、前工程結果の予測値の指示等がある。
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