パーク・システムズ、EUV・インライン用フォトマスクリペア装置「Park NX-Mask」のリリースを発表

原子間力顕微鏡（AFM）のリーディングカンパニーであるパーク・システムズは、最も安全で効率的なフォトマスクリペア装置である「Park NX-Mask」を10月31日に発表した。



Park NX-Maskは、AFMを用いたEUVマスクリペア装置で、デュアルポッドシステムにより自動リペアと即時リペアといった機能を備えており、インライン生産に対応した装置である。自動欠陥検査から欠陥のリペア、リペアの確認までと、オールインワンのソリューションを提供し、これまでになりリペア効果でスループットの向上が期待できる。

「Park NX-Maskは、ハイエンドEUV半導体製造、研究開発、マスクショップ向けの最先端のAFMベースフォトマスクリペア装置です。また、お求めやすい価格設定により、市場で最も経済的なシステムとなっております。」とパーク・システムズのプロダクト・マーケティング部の責任者であるRichard Lee専務取締役は述べる。

Park NX-Maskは、ナノメートルの精度とエッジ配置においてもオングストロームレベルの精度で、フォトマスクの欠陥や異物を除去し、高難易度のフォトマスクリペアにも対応する。また、反射パターンを乱すことなく、シミや異物などの疑似的な付着物も除去できる。



EUVマスクのレチクルに便利な自動欠陥検査機能を標準機能として装備しているPark NX-Maskは、電子ビームやレーザーなどによって生じるリスクから解放され、高スループット、高分解能を実現している。さらに、Park NX-Maskは、表面粗さとパターンステップ高さのための全自動AFMナノ計測を可能にし、ノンコンタクトスキャンモードを基に、サブオングストロームの垂直精度で計測を行う。

Park NX-Maskの詳細はこちら： https://bit.ly/3Wgn8vy


パーク・システムズについて

パーク・システムズは、化学、材料、物理、ライフサイエンス、半導体、データストレージ業界の研究者や技術者向けに、原子間力顕微鏡システムで最も急成長している世界有数のメーカーであり、あらゆる種類の製品を取り揃えています。世界で最も差し迫った問題を解決し、科学的発見と技術革新の限界を押し広げる科学者とエンジニアのために、ナノスケールの進歩を遂げることがパーク・システムズの使命です。パーク・システムズの顧客には、世界的な半導体企業やアジア、ヨーロッパ、南北アメリカの国立研究所や大学が含まれています。韓国の水原（スウォン）に本社を置くパーク・システムズは、アメリカ、メキシコ、ドイツ、フランス、イギリス、中国、日本、シンガポール、インドに拠点を置き、韓国証券取引所（KOSDAQ）に上場している企業です。
詳しくは、https://parksystems.com/jp をご覧ください。

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情報提供元：PRTIMES
本リリースの掲載元：https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000010.000078601.html