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その後もフォトマスクブランクス、フッ化アルゴン(ArF)レジスト、多層膜材料、極端紫外線(EUV)レジストなどを手がけた。
25年度には元の成長軌道に戻る」 ―極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの好調は継続しますか。
列真(東京都品川区、張東勝社長)は、半導体製造で回路を転写するフォトマスクを作成するガラス基板材料のマスクブランクスの検査装置生産を強化するため、長野県小諸市に新工...
【列真/半導体のガラス基材検査装置】 列真(東京都品川区)は、半導体回路の転写ガラス基材マスクブランクスの検査装置「LODAS―BI8&...
(中国の需要に対し)今後どのようなサプライチェーン(供給網)を組むかは検討中だ」 ―極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの...
AGCは27日、半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの生産能力について、2025年までに現在と比べ約30%増にすると発表した。... AGCでは17年に...
半導体部材、技術革新に挑む 全額出資子会社のAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)が生産する半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランク...
エレクトロニクス分野では、最先端半導体製造プロセス向け部材のEUVマスクブランクスで25年度に売上高400億円以上(現在百数十億円)を目指す。
対象は、シリコンウエハー上への回路図の転写に用いられるフォトマスクブランクス。... EUVマスクブランクスは低膨張ガラス基板に複数種類のコーティングを施した部材。... EUVマスクブランクスには、...
【EUV向け増】 同社はルテニウムを用いた成膜材料「スパッタリングターゲット材」を、半導体ウエハー上に微細回路を形成する材料や、回路パターンを同ウエハーに焼き付ける原盤の母材「マスク...
今や、この「EUVマスクブランクス」が、同社の半導体関連部材製品群の中で最大規模となった。... EUVマスクブランクスは、低膨張のガラス基板上に光の反射や吸収、耐久性を調整する機能膜を積層した部材。...
(梶原洵子) 【段違いの性能】 AGCがフォトマスク母材(マスクブランクス)に新規参入したのは、EUVは光源と露光方法が変わり「従来...
AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EU...
同社は17年、APMIに先行してEUVマスクブランクス(原版)の欠陥をEUV光で検査する「アクティニック・ブランク・インスペクション(ABI)」装置を製品化。... マ...
レーザーテックは、APMI装置を市販する前の2017年4月に、EUVマスクブランクス(原版)の欠陥をEUV光で検査するアクティニック・ブランク・インスペクション(ABI)...
【微細化ニーズ】 このほかにもAGCはEUV露光用のフォトマスク材料(フォトマスクブランクス)の生産能力を、20年までに18年11月末時点に比べ約3倍に拡大する計画。
信越化学工業は光ファイバー用プリフォーム(前駆体)や半導体の製造工程で使うフォトマスクブランクスの設備投資を進めている。
半導体の回路パターン原版の材料であるフォトマスクブランクスを生産する既存工場はほぼフル稼働の状況だ。
