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記事検索結果
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半導体業界における活用事例として、窒化ガリウム(GaN)結晶成長の最適化を取り上げる。 ... GaN結晶成長は化学気相成長法によってなされるが、Si結晶と比較し速度...
CVD・ALDプリカーサ材料の供給力強化 JX金属のグループ会社である独タニオビスは、独ゴスラーの拠点に次世代半導体向け化学気相成長法(CVD)・...
従来の化学気相成長法(CVD)と同等の高結晶性GaNの成膜が可能で、コスト削減に寄与する。... 東ソーはこうした課題を解決するため、製造コストの低いスパッタリング法への置き換えに向け...
人工ダイヤは1955年に米ゼネラル・エレクトリックにより高温高圧合成法によって初めてつくられた。現在は同合成法と化学気相成長法(CVD)が主流で、低コスト化が進み幅広い産業分野で活躍し...
JX金属は次世代半導体向けに、薄膜形成プロセスで用いられる化学気相成長法(CVD)・原子層堆積法(ALD)材料の生産能力を増強する。... 高性能な先端素材の開発供給を...
新開発の「低温TiC―X」は、物理気相成長(PVD)による低温炭化チタン(TiC)コーティング膜。... 表面処理はPVDと化学気相成長法(CVD)の双...
半導体を製造する際のCVD(化学気相成長法)やALD(原子層堆積法)といった技術に用いる化合物「プリサーカー」が、JSRの製品群に加わる。
そこで私たちは、もともと化合物半導体の分野で発展してきた薄膜成長法である「有機金属化学気相成長法」を2次元物質に応用することにした。
ハイドライド気相成長法(HVPE)を生かし、低欠陥が特徴であるレーザー向けの2インチウエハーで25年に向けて現状比4、5割増といった大幅な出荷増を想定。日本製鋼所などと低圧酸性アモノサ...
化学気相成長法(CVD)と比べ低コストでできるのが特徴。... お互いのエチレンプラントを効率的に稼働できる仕組みも重要だ」 【記者の目/高付加価...
化学気相成長法(CVD)を活用し、廃プラの熱分解によって発生した炭化水素ガスを回収し、金属触媒によって複層CNTを作る。 通常のCVD法によるCNT製造では、アセチレ...
従来、r―GeO2は成膜時に蒸発するため、霧(ミスト)状の溶液を使い薄膜を形成する「ミストCVD(化学気相成長)」法でも低結晶領域が混入し、うまくエピタキシャル成長させ...
こうした中で競争力を維持し、成長分野へポートフォリオ転換するためには、高付加価値ガラスの開発へのシフトが必要だ。... 英国では水素燃焼などカーボンニュートラル(温室効果ガス排出量実質ゼロ&#...
JCCは海外生産拠点を持たず、物理気相成長(PVD)を用いたセラミックコーティングの受託加工は国内を中心に行ってきた。 IHIイオンボンドはPVD、化学気相成長法&#...
ALDは化学気相成長法(CVD)の一種。... 仏調査会社のヨールグループによるとALD装置市場は年平均12%成長し、2026年に6・8億ドル(約900億円)に...
岡山大学の鈴木弘朗助教と橋本龍季大学院生、林靖彦教授らは、二硫化タングステンの大面積薄型結晶の合成法を開発した。... 従来法の10倍以上大きくなった。... 化学気相成長法では数...
スパッタ法は化学気相成長法(CVD)に比べ装置コスト低減や材料の利用効率向上を図れる。... スパッタ法は成膜に応力を付与でき、大口径シリコン基板に対応できる。CVD法は素材の熱膨張率...
高密度に蒸着可能な複合化合物膜の技術を高速蒸着技術に適用することで、一般的なスパッタ法に比べて成膜速度が100倍超に向上し、コストを5分の1以下に抑えた。成長が見込まれるフレキシブルデバイスや太陽電池...
物質・材料研究機構(NIMS)では、独自に開発した超高真空型ダイヤモンド成長装置を用いて量子デバイス応用のための超高純度ダイヤモンド成長を行ってきた。... 結晶成長法には、ガスを原料...
