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記事検索結果
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共和製作所(愛知県碧南市)は炭素繊維強化プラスチックを加工し、極端紫外線(EUV)露光装置の静電チャックを想定した部品を製作した。
特に7ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の先端半導体ではEUV露光装置が不可欠だ。... EUV露光装置は光源の出力を高めることで半導体製造に使えるようにした。 ...
日本の研究機関としては初めてEUV露光装置を導入する。... EUV露光装置は回路線幅が微細な半導体の製造には必要不可欠だ。... 今後はロジック以外にもDRAMにもEUV露光装置が量産適応される予定...
最先端の半導体分野では極端紫外線(EUV)露光装置を手がける蘭ASMLが独占するが、EUVに比べて解像性の低い装置もメモリーや車載向けなど幅広い分野で需要が強まっている。... 一方、...
シンプルな極端紫外線(EUV)露光技術を開発した。 減衰率の大きかったミラーを削減し、小型EUV光源で露光できるようになる。... 「検査用EUV光源で露光装置に挑戦...
同社はコージライト製品を主に半導体の露光装置向けに展開。もともとは低熱膨張ガラス製のウエハー保持用ステージの代替素材として提案し拡販してきたが、現在は最先端の極端紫外線(EUV)露光装...
「24年中にはラピダスにEUV露光装置が導入される。... EUV露光装置に触れられる環境として、imec(ベルギーの国際半導体研究機関)などがある」 ―米インテルに...
従来、複数回必要だったEUV露光の工程を削減し、コスト低減に寄与する。 ... EUV露光は先端半導体の製造には不可欠。一方、EUV露光装置の運転には大量の電力を使用するなどの課題も...
24年中にはラピダス(東京都千代田区)が北海道のパイロットラインに、日本で初めて極端紫外線(EUV)露光装置を導入。... ASMLが人員強化に動く背景には、日本政府の...
リンテックは次世代極端紫外線(EUV)露光装置用カーボンナノチューブ(CNT)ペリクル(防塵膜)を開発しサンプル提供を始めた。......
次世代極端紫外線(EUV)露光機に対応するレジストを開発し、トップランナーを目指す」 ―石油化学関連は環境負荷低減技術に舵を切る方針です。
住友化学は次世代極端紫外線(EUV)露光装置向けフォトレジストを開発する。... 次世代EUV露光装置は微細な回路パターンを描くため、光の利用効率が高い高NA...
また、速度がDRAMとNANDの中間のメモリーを開発できないか考えている」 ―NANDにおいて、極端紫外線(EUV)露光装置の導入の可能性はありますか。 &#...
傷やホコリを付きにくくする機能を持ち、露光工程の生産性を向上できる。 ... このため回路線幅の超微細化ニーズが高まっており、微細化回路形成用の極端紫外線(EUV)露...
EUV露光装置を複数導入 米半導体大手マイクロン・テクノロジーが2027年末にも先端DRAMの新工場を稼働することが分かった。26年早々に広島工場(広島県東広島市)の...
100億ドル以上の露光などと比べ小さい。... 線幅数ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の最先端半導体の製造に必要な極端紫外線(EUV)露光装置の開発からニコンとキ...
アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したTSMCのケビン・チャン上級副社長はASMLの高NA(開口数)極端紫外線(EUV)露光装置について、「非常に...
