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記事検索結果
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「回路線幅43ナノメートル(ナノは10億分の1)から線幅32ナノメートルに微細化を進め、その効果が20―30%出る。... 線幅32ナノメートル品の量産を7月に始めた。... ...
7月から最新の回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス品の量産を開始、採算も改善する見通し。年内に線幅32ナノメートル品を3割以上に増やす意向だ。
2ギガビット品では、韓国サムスン電子が回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用したDDR3の量産を始める。
ルネサステクノロジは10月までに回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の先端半導体の開発・試作機能を、北伊丹事業所(兵庫県伊丹市)から量産拠点の那珂事業所&...
インテル(東京都千代田区、吉田和正社長、03・5223・9100)は22日、回路線幅34ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス技術で製造したNAND型フラッシュメモ...
米アルテラは回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスによるFPGA(フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ)が、住友電気工業の低密度パリティ・チェック...
東芝はASMLが開発した計算機リソグラフィー製品を回路線幅30ナノメートル(ナノは10億分の1)世代、同20ナノメートル世代の半導体製造工程に採用する見通し。
サンプル出荷を始めた回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)、同45ナノメートルなどの低電圧で高速処理に対応した先端プロセス品が動く」 ―デジタル家電にもFPGA(...
NECエレクトロニクスは回路線幅32ナノ、同28ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した次世代半導体の量産について半導体ファウンドリー(受託製造会社)を本格...
半導体理工学研究センター(STARC)、東京大学、慶応義塾大学は6日、新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)委託事業である「極低電力回路・システム技術開発...
回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の半導体製造プロセスへの採用を目指す。... 同技術は回路パターンを写したマスクが不要で直接ウエハーに回路パターンを書き込むもの。
「回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスに代表される先端製品の需要が確実に強まる。... 「その次の線幅28ナノメートルも来年上期には量産に入る。... 「線幅22ナノ...
大日本印刷は1日、米モレキュラーインプリントと回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の次世代半導体製造技術として有望なナノインプリントリソグラフィ技術の実用化に必要な、テン...
生産を始めた回路線幅50ナノメートル(ナノは10億分の1)や次世代の同45ナノメートルプロセスの開発を加速し、広島工場ではウエハー一枚から取れる半導体チップの生産量を大幅に増やし、製造...
日本アルテラ(東京都新宿区、日隈寛和社長、03・3340・9480)は回路の設計変更が可能な集積回路であるフィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)で産業機...
ちなみに、半導体の回路線幅の主流は現在、45ナノメートル(ナノは10億分の1)で、数年内に22ナノメートルまで実現可能とされる。
「2009年10―12月期に回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用したチップの量産が始まり、その2年後には線幅22ナノメートルまで微細化する計画だ。
日の丸半導体の復活へ、国家の威信をかけて臨む立体構造新機能集積回路「ドリームチップ」の開発プロジェクトが2年目を迎え、研究が本格化してきた。... (藤木信穂) 【一線画す技術...
