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記事検索結果
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龍谷大学先端理工学部の内田欣吾教授は29日、光を照射すると急速に形状変化する、有機薄膜結晶システムを開発し、その仕組みを解明したと発表した。
CNTをインク化し、薄膜塗装し電気抵抗体として発熱させる。... ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに厚さ約2マイクロメートル(マイクロは100万分の1)で薄...
開発したモジュールは、薄膜熱電材料からなる「ゼーベック素子」によって構成されるマイクロ熱電発電と、このマイクロ熱電発電部を絶縁体、マイクロ熱電発電部以外を真空によって熱アイソレーション(隔離&...
米FORGE NANO/粉体に利用できる原子層堆積技術 米FORGE NANO(コロラド州)は、粉体に利用可能な薄膜コーティングの原子層堆積...
日本電子/電子銃やプラズマソース出展 日本電子は「Solutions for Innovation」のもと、ユーザーに役立つ高機能光学薄膜の成膜に最適な電子...
芝浦メカトロニクス/5G電子部品の薄膜形成向け装置 芝浦メカトロニクスは第5世代通信(5G)時代の電子部品の薄膜形成向けスパッタリング装置を紹介。
表面改質、薄膜から厚膜まで トーカロは溶射を中心とした表面改質技術を持ち、加工も手がける。薄膜から厚膜までさまざまな表面改質が得意。
研究グループは、薄膜を作る装置「分子線エピタキシー装置」を使用。... 次回以降の薄膜作製の変数を機械学習で推定した。... 11回の薄膜作製の実験を実施し、最適な薄膜作製の変数の組み合わせを決定。
NTTは東京工業大学の小山二三夫教授と共同で、高い熱伝導率を持つ炭化ケイ素(SiC)基板上にインジウムリン系化合物半導体を形成した薄膜構造のレーザー(メンブレンレーザー)...
安価な材料で高速に成膜できる「ハイドライド気相成長(HVPE)法」を利用し、太陽電池の高効率化や薄膜化に必要なアルミニウム系材料の成膜装置を作製。... さらにHVPE装置で製造したI...
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン/非接触・非破壊で薄膜材料解析 ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(東京都杉並区、03・3220・5871)は、多様な薄膜材料...
大阪産業技術研究所(ORIST)は、厚みが30マイクロメートル(マイクロは100万分の1)以下と薄膜ながら強度を備えた自立型のリチウムイオン電池用固体電解質シートを開発...
マンガンを添加したビスマスフェライト薄膜の260マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の間に青紫色レーザー光を照射すると、マイナス193度Cで852ボルトの電圧が発生した。
従来は鉛を還元した鉛還元層で入射信号に電気特性を与えたが、独自の薄膜形成技術を応用してチャンネル内壁に形成した膜で電気特性を与えられるようにした。
ルテニウム酸ストロンチウムの単結晶薄膜を試料とし、低温かつ磁場下で電気伝導を測定した。... NTTが機械学習によるプロセスインフォマティクスと組み合わせて高品質な単結晶薄膜を作り、東大の田中雅明教授...
【研究開発助成/一般研究開発助成(レーザプロセッシング)】▽吉田隆/名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻「積層金属―セラミックス複合テープにおける高精度導電性マイ...
【浜松】ナノプロセス(浜松市西区、刀原寛孝社長、053・482・1800)は、レーザー薄膜除去装置の製造・販売に乗り出した。... レーザー薄膜除去装置は長期目線で育てる新規事業として...
シリコン集積回路などに使われる窒化シリコン薄膜の熱伝導率を室温から500度Cの間で測定した。 その結果、厚さ100ナノメートル(ナノは10億分の1)の薄膜では温度が上...
またPbS/PbSeは水分などで劣化しやすいが、同社独自の薄膜封止技術によって、他社にない薄型でチップ形状のデバイス開発に成功した。
