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記事検索結果
70件中、2ページ目 21〜40件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.025秒)
名古屋大学の田中敦之特任准教授と天野浩教授らは浜松ホトニクスと共同で、窒化ガリウム(GaN)基板をレーザーでスライスする技術を開発した。... 焦点部分で...
「融液成長が可能な酸化ガリウムはパワー半導体の有力材料になる」と説くのは、東北大学教授の吉川彰さん。... パワー半導体には窒化ガリウムや炭化ケイ素が実用化されているが普及は数&#...
不純物や欠陥の少ない酸化ガリウム単結晶をコストを抑えて製造できるようになる。... 酸化ガリウム原料を水冷装置の中で高周波加熱する。融解した酸化ガリウムは水冷装置で急冷され外側は酸化ガリウムの結晶がで...
酸化ガリウム技術でリードするノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市)との共同研究に生かす。 酸化ガリウムは融点が約1800度Cと高く、溶融させると容器の...
このように、端的に言えば “頑丈”な酸化ガリウムデバイスは、パワーデバイス用途だけでなく、極限環境と呼ばれる非常に過酷な環境でも活きてくる。 ... これら高温や化...
次世代の窒化ガリウム(GaN)の単結晶ウエハーには三菱ケミカルや住友化学が、酸化ガリウムにはタムラ製作所子会社のノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市)が取り組む。...
ノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市、倉又朗人社長)は、次世代パワー半導体材料である酸化ガリウムの150ミリメートルウエハーの成膜に成功した。......
次世代パワー半導体材料である酸化ガリウムの100ミリメートルウエハーのための設備投資に充てる。 ... ノベルクリスタルテクノロジーは2021年、酸化ガリウムの100ミリメ...
酸化ガリウムや窒化ガリウム(GaN)といったガリウム系の素材を用いて、不規則な変動電源に対して常に高効率な対応が可能な「ユニバーサルスマートパワーモジュール(USPM)...
フロスフィアが手がける酸化ガリウム(Ga2O3)製のパワー半導体の製造プロセスや、パワーモジュールの材料開発などで協業する。 ... 次世代半導体材料である酸化ガリウ...
タムラ製作所の子会社で半導体開発のノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市、倉又朗人社長)は、酸化ガリウムを材料とする高電圧対応のパワー半導体ダイオードを開発した...
本特集では次世代半導体として注目されるSiC(炭化ケイ素、シリコンカーバイド)、GaN(窒化バリウム、ガリウムナイトライド)、酸化ガリウム、ダイヤモンドといった材料の最...
炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)、酸化ガリウムを基板に使い、接続部の温度が高くなる次世代パワー半導体などでの使用を見込む。... SiCやGaN、酸化ガリウ...
シリコン系ではスプリットゲートという特性の高いMOSFET(金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ)や、FS―IGBT(フィールドストップ型絶縁ゲートバイポーラトランジスタ...
ノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市、倉又朗人社長)は、高耐圧な酸化ガリウムダイオードを開発した。... 電力制御などのパワーデバイスに低損失な酸化...
化合物半導体の次世代材料では酸化ガリウム(Ga2O3)などが注目されているが、「完全な切り替えはない。
具体的にはJX金属グループが生産するインジウムリンやカドミウムジンクテルルのほか、スタートアップ企業と連携して技術開発に取り組む酸化ガリウムなどの用途開拓を加速させる。
タムラ製作所やAGCなどが出資するパワー半導体材料開発ベンチャーのノベルクリスタルテクノロジー(埼玉県狭山市、倉又朗人社長)は、次世代半導体材料である酸化ガリウムの100ミリメートルウ...
現在では、次世代パワー半導体としてSiCだけではなく、窒化ガリウム(GaN)、酸化ガリウム、ダイヤモンドといったより低損失なパワー半導体が台頭してきている。 ...
研究グループは以前、酸化ガリウムに銀の微細粒子を付けた光触媒に水酸化クロムを加えると、水よりCO2が還元しやすいことを突き止めた。... 硝酸ガリウム水溶液に塩化カルシウムを加え、酸化ガリウム表面にガ...
