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記事検索結果
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▽アトリエケー(兵庫県姫路市)=製造業の現場作業での負担を軽減するパワーアシストスーツの開発▽アビオスエンジニアリング(同)=カーボンフリーへの大きな起...
クリエイティブコーティングス(東京都新宿区)への出資を通じ、常温でナノレベルの薄膜を金属酸化膜によって作る技術、いわゆる室温ALDの開発を進める」 ―事業展開における...
米FORGE NANO/粉体に利用できる原子層堆積技術 米FORGE NANO(コロラド州)は、粉体に利用可能な薄膜コーティングの原子層堆積...
オプトラン/プラ基板に光学多層成膜 オプトランはプラスチック基板への光学多層成膜が可能なプラズマ原子層堆積(ALD)装置「ALDER―800P=写真...
コロラド大学ボルダー校で粉体へのALDを学んだ学生が立ち上げたベンチャー。... 半導体業界ではこれまで、平面へのALDコーティングは実用化されているが、粉体へのALDコーティングは歴史が浅く、今後の...
キントのサービスモデルを活用するほか、現地リース会社のALDオートモーティブやSMASオート・リーシングと組み、サービス体制を盤石にする。
明電舎は、オゾンとエチレンガスによる原子層堆積(ALD)でフィルムに成膜したサンプルの大きさを、実用レベルに引き上げる。
山形大の広瀬文彦教授の開発した室温で金属酸化膜を50ナノメートル(ナノは10億分の1)に形成する量産技術(原子層堆積法=ALD)が同社設立の中核技術。
TDKは、直流抵抗値を従来品比12%低減した小型低背タイプの薄膜電源系インダクター「TFM―ALD=写真」シリーズを開発し、量産を始めた。
半導体製造プロセスは、原子層レベルで成膜する原子層堆積(ALD)が主流になり、メモリーの多層化なども加速している。
ピコサンの成膜装置に日立ハイテクのプラズマ技術を組み合わせ、プラズマ原子層堆積(PE―ALD)装置を共同で開発する。 ... 一般的なALD成膜は100―400度Cが...
ALD装置は半導体用シリコンウエハーなどの成膜に使われる。... 「海外のALD装置は1000万円以上が多い」と指摘するのは、技術開発部の工藤雅嗣主任。... ALD法は精密な堆積制御を実現し、均一に...
ALD装置は半導体シリコンウエハーなどに成膜する。... ALD法は精密な堆積制御を実現し、均一に段差などにも対応して成膜できる技術。... ALD装置は2011年に北海道大学量子集積エレクトロニクス...
3次元積層した半導体の貫通電極を作成する際に利用する原子層堆積(ALD)をレンズにも応用した。... 同社によるとALDを使った量産向けレンズ用光学薄膜形成装置の製品化は国内初という。...
装置としてはALD(原子層堆積法)成膜、エッチング、洗浄などを重視していく」 ―IoTの普及拡大により、古い世代の製造装置へのニーズも高まります。
炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)を使ったパワー半導体のゲート酸化膜形成用に、原子層堆積(ALD)装置を開発し発売した。... ALD装置は1...
日本製鋼所が100%出資する子会社、JSWアフティ(東京都八王子市)が同装置や、成膜を補正するALD(原子層堆積法)といった既存成膜装置を製造、販売する。...
