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記事検索結果
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従来の表面科学理論では説明できない現象だが、化学機械研磨(CMP)を省き半導体製造プロセスを短縮できる可能性がある。 ... 水素熱処理はCMPのダメージ層を除去する...
半導体関連の精密・電子事業は半導体需要拡大を追い風に好調で、ドライ真空ポンプは化学機械研磨(CMP)装置と並ぶ主力製品。
藤沢事業所は精密・電子セグメントの拠点のため、化学機械研磨(CMP)装置など半導体関連の製品からVRの活用が進んだ。 CMP装置などのアフターサービスのトレーニングを...
一連の投資によって、半導体研磨材料(CMPスラリー)のグローバル生産能力を現状比1・5倍に高める。 新工場はCMPスラリーに加え、フォトリソグラフィー周辺材料も生産す...
日本企業がほぼ独占している例を挙げると、半導体ウエハーに感光剤を塗って現像するコータ・デベロッパは東京エレクトロン(TEL)が世界の90%、走査型電子顕微鏡(SEM&#...
半導体製造装置の化学機械研磨(CMP)装置のラボも建設する。... 荏原は精密・電子事業でドライ真空ポンプやCMP装置などの半導体製造装置を手がける。... CMP装置は半導体のウエハ...
韓国国内では19年以前の時点で、サムスン100%子会社のSEMESが枚葉式洗浄装置で、同じくサムスンが出資するKCテックがCMP装置でそれぞれ日本勢のシェアを上回るなど、世界全体とは異なる状況...
第1弾として研磨材料(CMPスラリー)をはじめ半導体・電子材料での無機基板と有機分子の相互作用メカニズム解析への活用を始めた。
富士フイルムは半導体製造の後工程向けに特化した半導体研磨材料(CMPスラリー)を2023年末をめどに市場投入する。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が...
昭和電工マテリアルズは山崎事業所勝田サイト(茨城県ひたちなか市)での半導体集積回路向け平坦化研磨材料(CMPスラリー)の設備投資計画が、茨城県の次世代産業集積・カーボン...
扶桑化学工業は9日、鹿島事業所(茨城県神栖市)に、シリコンウエハーの精密研磨剤や化学機械研磨(CMP)用途で使われる超高純度コロイダルシリカの製造設備を新設す...
ロボットのほかには、無人搬送車(AGV)・自律移動ロボット(AMR)、FA装置、工作機械、ウオータージェット加工機、化学機械研磨(CMP)装置などの利用...
精密・電子事業では好調な半導体製造装置、化学機械研磨(CMP)装置の生産を増強する。... 製品や地域で重複がほぼなく、シナジーが見込める」 ―CMP装置は熊本県南関...
エッチング装置などに使用される流体制御機器メーカーであるCKD、洗浄装置に組み込まれるフッ素樹脂継手(つぎて)の日本ピラー工業、そして化学的機械研磨(CMP)による平坦...
リソグラフィー材料、CMPスラリーや洗浄剤といったプロセス材料、実装材料など幅広い材料開発を手がけ、半導体産業のニーズを全方位でカバーできる体制で取り組んでいる」 ―2021年7月に...
富士フイルムは国内で半導体ウエハー用研磨剤(CMPスラリー)の生産を始める。... CMPスラリーは硬さの異なる配線や絶縁膜が混在する半導体表面を平坦化するための研磨剤で、半導体製造プ...
昭和電工マテリアルズは1日、約200億円を投じ半導体回路平坦化用研磨材料「CMPスラリー」の生産能力と評価機能を増強すると発表した。... 同社はCMPスラリーで世界シェア2位。....
