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IMEC、EUV露光装置による20ナノ世代半導体の量産にめど （2008/10/21）
EUV露光装置は現状では光源出力100ワット程度にとどまるが、光源にレーザー生成プラズマ(LPP)を採用し09年半ばに出力を200―210ワットに引き上げる。... LPPを用いて光源...
