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記事検索結果
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工程全体でバラつきを補正する回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)ロジックデバイス向けの製造技術で、既に量産ラインに導入した...
標準のシリコン相補型金属酸化膜半導体(CMOS)回路上に、磁石の「スピン」を利用したスピントロニクス素子を積んだ積層構造を作り、記憶と演算の機能を回路に一体化した。
新製品はAPS―Cサイズ(23・5ミリ×15・6ミリメートル)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを採用し、有効画素数が同15・7%増の162...
東芝は相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサーの画質劣化の主因となる「ランダムテレグラフノイズ」と呼ばれる雑音を減らすためのシミュレーション技術を世界で初めて開発した。......
送受信部と信号源を一つの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)に集積。... CMOSプロセスで製造すると回路の規模は小さくできるが、ノイズが発生し性能が劣化するという課題があり、送受信部...
新サービス「部品管理最適化サービス(CMOS)」はボーイングと富士通が共同で開発し、ボーイングが主体になって航空会社や航空整備会社向けに提供する。
今回、90ナノメートル(ナノは10億分の1)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスで試作したLSIは、待機時の消費電力が7マイクロワット(マイクロは100...
東北大学大学院工学研究科の須川成利教授らは島津製作所と共同で、従来の電荷結合素子(CCD)イメージセンサーに比べて20倍速い毎秒2000万コマの高速動画撮影が可能な相補型金属酸化膜半導...
ソニーは11日、総画素数約2000万画素の大判相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載した業務用カメラ「F65=写真」を開発したと発表した。... 開発したカメラはCM...
新製品は独自の1600万画素の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーなどにより、撮影場面に応じて49パターンの画質設定の組み合わせから自動的に判断する機能を実現。
130ナノメートル(ナノは10億分の1)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスを使って、64個の光路切替素子と1個の光合分波素子を12ミリ×3ミリメート...
半導体工場(長崎県諫早市)もゲーム用を生産していたが、これを機にスマートフォン向けで需要が急増している高画質が特徴の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)イメージセンサー用...
東芝は23日、既存の材料に比べて安価で小型化が可能な相補型金属酸化膜半導体(CMOS)を使った車載用レーダー向けの電子部品を開発したと発表した。... CMOS化で製造コストが下がり、...
45ナノメートル(ナノは10億分の1)の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスで試作したSoCの消費電力は約3・2ワットだった。
回路線幅90ナノメートルの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスを使い、ナノブリッジを集積したLSIを試作して動作を実証した。
40ナノメートル(ナノは10億分の1)の量産型の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)プロセスでフリップフロップ回路を作った場合、従来比で最大77%の消費電力を削減...
現行の線幅32ナノメートルの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)よりゲート当たりの面積と消費電力は大きいが、集積度を上げつつ省エネ化は可能としている。
裏面照射型の相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサーを搭載し、夜景撮影時などに感度やシャッター速度を変えて連写した画像を合成して最適な画像に自動で仕上げる機能も持つ。
