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記事検索結果
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NECエレクトロニクスは29日、チップ上の回路線幅に90ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用したDRAM混載LSI「μPD809400」を製品化したと発表した。... 8メ...
回路線幅30ナノメートル(ナノは10億分の1)台以降を指す「モア・ムーア」、センサーなどと組み合わせて多様化を図る「モア・ザン・ムーア」などについて半導体の研究開発責任者に聞いた。.....
エルピーダメモリは09年初頭に量産を始める回路線幅50ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した先端DRAM(記憶保持動作が必要な随時書き込み読み出しメモリー)...
ゲーム機やデジタル音響・映像(AV)機器、デジタルカメラ向けに、回路線幅55ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した先端半導体の受注が急増していることに対応...
回路線幅45ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用するとともに、主要LSIを4個から1個に、データとプログラムの外部メモリーを7個から5個に減らした。
回路をウエハーに焼き付ける露光装置のレンズ材料が定まっておらず、2010年の実用化に間に合わないと判断した。... 高屈折率溶媒を用いた液浸露光は、チップ上の回路線幅32ナノメートル(ナノは1...
回路をウエハーに焼き付ける製造前工程の投資では、甲府事業所(山梨県甲斐市)に敷設する直径200ミリメートル(8インチ)ウエハーラインを増強し、電源などのスイッチ機能を持...
回路線幅32ナノメートルプロセスを採用した次世代半導体では、東芝とNECエレクトロニクスが共同開発に合意していることから、国内では二つの陣営に分かれてプロセス開発が進む。 量産段階に移行した同...
だが、ニコンで精機カンパニープレジデントを務める牛田一雄専務執行役員は「回路を微細化した先端プロセスでは戦略的な投資が続く」とし、回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の先...
エルピーダは09年初めに回路線幅50ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した先端DRAMを量産する。回路線幅を細くするとウエハー1枚から取れるチップ数は増える。ただ、回路線...
回路線幅40ナノメートル世代(ナノは10億分の1)の開発コストの負担軽減が狙い。... エルピーダがDRAMのキャパシターを積層するスタックキャパシター技術を、キマンダが埋め込み型ワー...
ルネサステクノロジは21日、ベルギーの研究機関であるIMECと回路線幅45ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の高周波トランシーバーIC技術を共同研究すると発表した。 ......
米IBMとシンガポールのチャータード・セミコンダクター・マニュファクチャリングは15日、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセス技術を採用した次世代半導体の試作確認に成功...
また、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の先端プロセス開発は、08年中に協業するか独自路線を貫くかを決めるとした。
半導体メーカーは車載用マイコンに回路線幅90ナノメートル(ナノは10億分の1)の先端プロセスを採用する。... ルネサステクノロジは回路線幅130ナノメートルプロセスを採用。... 半...
過去を知っているだけに新会社発足後も経験の延長線上に収まってしまう。 ... 半導体は回路線幅45ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した先端半導体が実用化された。
【横浜】ニューフレアテクノロジーは従来の3倍以上の速度でフォトマスクの回路パターン欠陥を検出する装置「NPI5000PLUS」を開発した。... 光線によるフォトマスクの欠陥検査では、波長の4分の1が...
