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記事検索結果
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従来のフォトリソグラフィーのようなパターン露光や溶媒現像せずに狙い通りの形状の流路を作製できる。
水晶片は感光性の薬品を塗布し、光を照射し表面を変質させるフォトリソグラフィー法を用いた。
日本電波工業はフォトリソグラフィー技術や応力解析シミュレーションを用いて、耐振動性能に優れた新しい発振器を開発した。
内視鏡や体外診断(IVD)システムに加え、先端半導体に使われるフォトリソグラフィー周辺材料などがけん引する。
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は最先端の液浸露光(リソグラフィー)装置向けArF(波長193ナノメート...
2年目もさらに追求する」 ―半導体事業はリソグラフィー関連の大型投資を終えました。
さらに極端紫外線(EUV)リソグラフィーなど次世代リソグラフィー向けの材料開発の評価装置としても訴求する。
半導体の品質向上にスラリーで貢献したい」 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーの関連事業の立ち上げを検討しています。 「EUV光源を使ったフォトリソ...
そういったデバイスのほとんどはフォトリソグラフィーと呼ばれる技術によって製造されているが、この技術は真空を多用し、いったん基板全体に成膜した後に不要な材料を取り去るという減算的手法のため材料の利用効率...
極端紫外線向け開拓 【JSR上席執行役員電子材料事業部長】 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーを視野に、材...
「中国市場のインパクトは大きいと見ており、米国や韓国、台湾メーカーの新工場を中心にリソグラフィー周辺材料などを提案している。... 「ベルギーの研究機関IMECを活用し、EUVリソグラフィー用のレジス...
極小の金属細線を格子状に配線するメタルメッシュセンサーは、フォトマスクを使って現像やエッチングをする「フォトリソグラフィー方式」が主流だった。
7ナノと同じように極端紫外線(EUV)のリソグラフィーを使いつつ、ナノメートルの厚みのシリコンシートにトランジスタを作り込み、それらを積層して高密度の集積回路を製造する手法にめどをつけ...
EUVリソグラフィー技術は半導体の微細化や集積度向上のニーズを背景に、線幅を10ナノメートル以下にする主要技術の一つとして普及が期待されている。
だが70年代後半には、ガラス基板上に感光剤(レジスト)を塗布し、フォトマスクを使って現像やエッチングをする「フォトリソグラフィー方式」に移る。
