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記事検索結果
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耐熱・耐薬品性の工業用フィルターや低吸水性の衣料、有機充填剤などへの応用を模索する。... 電子機器の高周波化の流れの中、低誘電率といった特徴も持つ同樹脂を需要をにらむ。
2台の完全同一回路パワーアンプ・ユニットを並列動作させることで、出力電流を大きくし低出力インピーダンスを実現。パワーアンプ回路のプリント基板に低誘電率、低損失のガラス布フッ素樹脂基材を使用した。
測定荷重範囲が0・1マイクロ(マイクロは100万分の1)―10ミリニュートンと同社従来機の10分の1になり、これまで難しかった紫外線(UV)硬化樹脂、低誘電率絶縁膜...
配線層間の絶縁膜には分子サイズの小さな穴が多数空いた、独自開発の低誘電率の多孔質(MPS)膜を採用した。 ... ルネサスは高速処理と低消費電力を両立する最先端eDR...
同社が開発した医療ケーブルは、特殊な方法でシールド断面を円形にし、ツイストペア線とシールド間に低誘電率層を持たせることで伝送特性を飛躍的に向上させた。 ... ただ、痛みを伴うため、より細い低...
増産する「可溶性ブロック共重合ポリイミド」は、ポリイミド樹脂合成時に特殊な触媒作用や材料を組み合わせて、接着性、感光性、ハンダ耐性、低誘電率といった特性を付加した高機能素材。
利昌工業(大阪市北区、利倉晄一社長、06・6345・8331)は高誘電率性と低誘電正接性を同時に実現した、高周波基板用プリント配線板材料(写真)を開発、サンプル出荷を始...
これまでは線幅32ナノメートルから22ナノメートル(ナノは10億分の1)のフォトレジストの開発が中心だったが、今後はフォトレジスト以外の層間絶縁膜や低誘電率材料と呼ばれる半導体材料まで...
トランジスタのゲート電極に大電流を流せる「高誘電率ゲート絶縁膜(High―k)」や漏れ(リーク)電流を抑制する「メタルゲート」、トランジスタ配線用の「低誘電率絶縁膜...
今後、分解能の1ケタ向上を目指し、LSI製造工程で不良チップの選別に生かすほか、次世代LSIに使う低誘電率膜の解析などに応用を模索する。
新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の研究プロジェクトは、LSI内のトランジスタ配線間を電気的に分離するために、多孔質シリコン酸化膜(ポーラスシリカ)を採用し...
フッ素を原料に使い、絶縁膜に求められる低誘電率特性(2・6―2・7)を実現。... 再配線型と呼ぶ垂直式配線に対応し、低誘電率特性など三つの特性を同時に備えている。従来のポリイミド系材...
同鋼板を用いた部品製造は従来の製造設備をそのまま活用でき、低潤滑性、揮発性のプレス油で成形可能。... 【奨励賞/ナミックス‐低誘電率・低誘電正接薄膜フィルム「」ADFLEMA】 低...
誘電率の低い材料を用いた配線技術なども新たに採用した。... トランジスタ構造に採用したのは、大電流を流せる「高誘電率ゲート絶縁膜(High―k)」とリーク電流の抑制効果がある「メタル...
半導体先端テクノロジーズ(セリート、茨城県つくば市、渡辺久恒社長、029・849・1300)は、金属ゲートと低誘電率のゲート絶縁膜を使う次世代LSI向け高性能トランジスタを開発した。