- トップ
- 検索結果
記事検索結果
329件中、9ページ目 161〜180件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.003秒)
細野秀雄東京工業大学教授とJX日鉱日石金属の「酸化物半導体In―Ga―Zn―Oスパッタリングターゲットの開発」と、大平辰朗森林総合研究所樹木抽出成分研究室長と日本かおり研究所(東京都新宿区&#...
キヤノントッキ(新潟県見附市、津上晃寿会長兼CEO、0258・61・5050)は、膜均一性を従来の倍以上となるプラスマイナス2・1%に引き上げ、成膜速度を2倍に高められるスパッ...
アルバックは、500度C以下の低温でPZT膜をMEMSに形成できるスパッタリング装置「SME―200」を3月に開発した。
スパッタロールコータは、プラスチックフィルムにスパッタリング法で酸化インジウムスズ(ITO)などの透明導電膜や光学膜などを形成する装置。
アルバックは25日、圧電材料となるチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)の薄膜を微小電気機械システム(MEMS)に、500度C以下の低温で形成できるスパッタリング技術を開発した...
成膜速度が1分当たり膜厚200ナノ―400ナノメートル(ナノは10億分の1)と、代表的な成膜技術であるスパッタリングの約20倍。
導電性の高い酸化インジウムスズ(ITO)などが電極形成時に必要とする蒸着やスパッタリングの装置を使わずに、スクリーン印刷で基材に塗布できる。
現在はスパッタリング法での成膜が大半だが、大口径ウエハーへ均一に成膜するにはゾルゲル法が有力視されている。 ... ゾルゲル法の普及には生産性がネックとなっていたが、新技術ではスパッ...
日立金属の高級金属カンパニーは従来、エレクトロニクス分野向けの金属薄膜材料であるスパッタリング用ターゲット材の収益に依存していた。
芝浦メカトロニクスは、後酸化方式を採用し、低温で樹脂にも成膜できる光学部品用スパッタリング装置をデジタル機器分野だけでなく、自動車分野にも売り込む。自動車では、フロントガラス前方に拡張現実(A...
【芝浦メカトロニクス/後酸化方式のスパッタ装置】 芝浦メカトロニクスは光学薄膜向けスパッタリング装置や研究開発向けスパッタリング装置を紹介する。光学薄膜向けスパッタリング装...
(0761・44・5411) 【超精密金型向け耐摩耗被覆提案】 和興産業宇部工場(山口県宇部市)は、物理気相成長(PVD&#...
コーティング処理には英パワービジョンが眼鏡レンズの反射防止処理用に開発したマグネトロン・スパッタリング装置を利用した。
ドライコーティングの一つであるスパッタリング技術を応用したITOフィルムは93年に事業化。... ITOフィルムに必要なスパッタリング装置でも、目先の効率に惑わされずに決して専用設備とはしていない。
