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ニュース拡大鏡/半導体フォトマスク好調総合印刷、設備フル稼働（2021/7/7 電機・電子部品・情報・通信１）

ただ、マスクの生産・開発で求められる投資規模は年々増大。... (張谷京子) 凸版印刷は、2021年度の半導体マスクの受注が前年度比10%強の伸びを予測する。...

大日印、5ナノ対応 EUVリソ向けフォトマスク技術開発（2020/7/11 総合３）

フォトマスク専業メーカーとしては5ナノメートル世代で初めての製造技術で量産体制を整えた。... マルチ電子ビームマスク描画装置の特性を生かし、新たな感光材料を含むプロセスを独自設計し、EUVマスクの微...

インタビュー/独ハイデルベルグ・インストルメンツ副社長価格・性能評価で攻勢（2019/9/26 電機・電子部品・情報・通信２）

レーザーフォトマスク製造装置、アジア軸に拡販独ハイデルベルグ・インストルメンツ(ハイデルベルク市)は、半導体業界向けにレーザーフォトマスク製造装置「ULTRA...

深層断面/順調! NEDOの事業化支援次世代の評価手法模索（2018/6/20 深層断面）

(3)電子デバイス製品 95年から電子ビームマスク描画装置を開発。最小線幅16ナノメートル(ナノは10億分の1)の回路パターンを加...

スーパーサイクルに挑む―半導体部材・装置各社(7)ニューフレアテクノロジー（2018/6/8 電機・電子部品・情報・通信２）

同社は、回路をシリコンウエハーに転写する際の原版(フォトマスク)の製造に使う「電子ビームマスク描画装置」やフォトマスクの検査装置、シリコンウエハー上に薄い膜を作る「エピタキシャル成長装...

ニューフレア、半導体装置の開発期間短縮へ芝浦メカトロと連携（2018/5/29 電機・電子部品・情報・通信１）

ニューフレアテクノロジーは芝浦メカトロニクスと連携し、半導体製造装置の開発期間短縮に乗り出す。... ニューフレアテクノロジーと芝浦メカトロニクスが協力するのは電子ビームマスク描画装置の開発。同装置は...

ニューフレアテクノロジー・杉本茂樹社長に聞く「研究費増やし微細化対応」（2017/12/25 電機・電子部品・情報・通信）

主力のフォトマスク描画装置では次世代機の開発を強化するほか、検査装置など新規事業の創出も加速する。... 最先端ではないが、回路線幅28ナノメートル(ナノは10億分の1)世代をメーンと...

NFT、フォトマスク検査機を量産薄膜形成装置で欧米進出も（2017/11/3 電機・電子部品・情報・通信）

2019年をめどに、処理速度を向上した新型の「フォトマスク欠陥検査装置」の量産を始める。... 同社は主力のフォトマスク描画装置事業が、売上高の9割超を占める。... フォトマスク欠陥検査装置は、半導...

エスケーエレ、中小型フォトマスク増強−VR機器の高精細化に対応（2017/4/14 電機・電子部品・情報・通信１）

2017年夏までに国内外の工場で、老朽化した描画装置などを入れ替えて歩留まりの改善などを進める。... 長年の稼働で装置の老朽化が進み、生産性に課題を抱えていた。 ... 描画装置の...