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次世代極端紫外線(EUV)露光機に対応するレジストを開発し、トップランナーを目指す」 ―石油化学関連は環境負荷低減技術に舵を切る方針です。
「(次世代は)露光機の出力が上がってくるため、今の材料では対応できなくなる。
最先端のEUV露光機に対応したカーボンナノチューブ(CNT)膜ペリクルの開発を目指す。半導体の微細化に伴いEUV露光機の高度化が進む中、半導体関連事業の成長に向けて次世代ペリクルを実用...
一般的なリソグラフィー露光機では、原図であるマスク上の電子回路パターンを写真の原理を使ってシリコンウエハー上に縮小して焼き付ける。... 最近実用化された露光機では、極端紫外線(EUV)...
キヤノンは6日、複数のチップを積み重ねて性能を高める「3次元(3D)」技術向けに後工程(チップ化やパッケージ化)で使われる半導体露光装置の新型機を開...
今後も「露光機販売台数を注視し、次の設備増強を検討する」(同)とする。 三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォトマ...
露光やパターン形成などの前工程を手がける1階部分の約8割がクリーンルームで、清浄度1万から100の4部屋を設置。新規購入1台を含むパターン露光機3台とコンタクト露光機8台を第1工場棟から1月中に移設完...
EUV露光技術は半導体の電子回路をナノメートルオーダー(ナノは10億分の1)で緻密に加工できる。... レジスト材料の有機物はEUVと反応しにくく、露光機の消費電力量は多すぎ、そこまで...
正確な露光には平行光が必要となるが、UVLED光源はLEDの光が広がる角度となる指向角が約120度と広く、露光用に取り込む光量が不足する傾向があった。 ... これにより新しい露光装...
住友化学は22日、最先端の半導体製造プロセスである極端紫外線(EUV)露光向けフォトレジストの開発・評価体制を強化すると発表した。大阪工場(大阪市此花区)に新棟を建設し...
既に浄水器や空気清浄機をはじめ、スキンケア製品やエスカレーターの手すりの殺菌機などに使われている。日本では家電をはじめ、産業用露光機や浄水器などのメーカーに提案する。 &#...
新製品はSCREENHDが得意とする半導体検査装置や露光機などの独自の光学技術を駆使して開発し、従来機種より解像度は約25倍高まったという。
露光装置を使った品質検査はIMECに委託する。 レジストはシリコンウエハー上に塗布し、レーザー光で回路パターンを露光する。JSRは現段階で最新の80ワット光源のEUV露光機で毎時10...
露光装置を使った品質検査はIMECに委託する。 レジストはシリコンウエハー上に塗布し、レーザー光で回路パターンを露光する。JSRは現段階で最新の80ワット光源のEUV露光機で毎時10...
サーマプレシジョン(東京都江東区、小谷一葉社長、03・5653・5881)は大口径・高解像度のパッケージ基板向け露光機(ステッパー)「ASS―Mk1・3 Ckレ...
サーマプレシジョン(東京都江東区、小谷一葉社長、03・5653・5881)は、焦点深度の大きい投影レンズを搭載したパッケージ基板向け応用露光機を開発した。... 投影型露光機はフォトマ...
