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キヤノン、FOWLP向け半導体露光装置 解像力0.8μmに向上
(2018/12/13 05:00)
キヤノンは解像力を従来の１・０マイクロメートル（マイクロは１００万分の１）から業界最高水準の０・８マイクロメートルに高めた半導体露光装置「ＦＰＡ―５５２０ｉＶ ...
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(2018/12/13 05:00)
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