NECはユーザーが用途に合わせて回路構成や機能を変更できる再構成可能LSIを従来比4分の1に小型化する技術を開発した。... 再構成可能LSIは出荷後にプログラムを書き込める論理回路と配線、プログラム...

太陽電池部材、液晶カラーフィルター、集積回路(IC)カード、ホログラム…。... 回路線幅65ナノメートル(ナノは10億分の1)のフォトマスクの供給からスタートし、40...

11年は回路線幅28ナノメートル技術を使った製品の初期量産が年内に始まる。

半導体業界では回路線幅を細くして容量を増やす微細化と平行してウエハーの大型化を進めてきた。

パナソニックは26日、回路線幅110ナノメートル(ナノは10億分の1)のバイポーラ相補型金属酸化膜半導体(BiCMOS)製造プロセスを開発したと発表した。... 線幅1...

回路線幅を狭めれば性能が上がり、同時に消費電力が下がる。今後10年程度で高性能LSIの線幅は20ナノメートル(ナノは10億分の1)、16ナノメートル、11ナノメートル、8ナノメートルと...

いずれも回路線幅40ナノメートル以降の先端半導体の生産能力を拡大し、競争力を高める狙いだ。 ... 日系メーカーも10年に、ルネサスエレクトロニクスが回路線幅28ナノメートル以降のシステムLS...

凸版印刷は、米IBMと共同で回路線幅14ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスク製造プロセスの共同開発契約を結んだ。

「半導体分野では回路線幅の微細化よりもチップの3次元実装に対する投資が増えてくるだろう。

茂徳はエルピーダからDRAM生産を受託してきたが、今回、回路線幅65ナノメートル(ナノは10億分の1)技術の供与を受け、自社品の製造にも使うことが可能になった。

そこで2009年に、台湾TSMCへ回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の生産委託を決めた。... 実際、半導体製造の肝とされ、回路を形成する露光装置は日系半導体メーカーの...

システムLSIは巨額投資が必要で、回路線幅の微細化が進む現在、新工場を建設すれば数千億円に達する。 ... 投資額ではサムスンに及ばない中、同社がサムスン追撃の秘策とするのが回路線幅...

コスト競争力が高まることもあり、半導体は回路線幅の微細化が進んでいる。

同子会社は回路線幅22ナノメートル以降の半導体製造に必要なDPP方式EUV光源を量産する新工場を建設、10日に開所式を開いた。

エルピーダメモリがDRAMの回路線幅の微細化のピッチを速めている。広島工場に続き、2011年3月にも台湾子会社の設備に世界最先端の回路線幅30ナノメートル前半の製造プロセスを導入する。... サムスン...

出展各社のブースには回路線幅の微細化に対応した装置に加え、チップやセルを横ではなく縦に積み上げる3次元技術や次世代材料に対応した装置が見られた。... 装置メーカーにとって最大の焦点は回路線幅を細くす...

露光技術は、波長が短くなるにつれ、シリコンウエハー上に形成する回路の線幅を細くできる。... 回路線幅10ナノメートル台の半導体を製造する。 ... 半導体チップを積層化し、平面に形...

1日開幕した「セミコンジャパン」では、素材メーカー各社が半導体回路の微細化や高密度パッケージに対応する先端素材を出展している。... (6面参照) 半導体の微細化、高...

【京都】大日本スクリーン製造は24日、回路線幅十数ナノメートル(ナノは10億分の1)の超微細な半導体ウエハーへの対応と高い処理能力を両立させた枚葉式洗浄装置「SU―3200=写...

搭載する論理回路素子などに放射線耐性の強い素子を使い、“純国産素子”で作り上げた。... 宇宙から地上に降り注ぐ放射線による電子回路の誤動作は、人命にかかわる大きな問題となっている。... 回路線幅は...