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記事検索結果
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半導体製造の露光工程で問題となる、尿素の除去性能を従来比2倍に向上。... 半導体メーカーは半導体の製造工程で使用する大量の超純水の水源として水道水を使用しているが、水不足の懸念から下廃水再生水の導入...
キヤノンは24日、パワー半導体向けにi線露光装置「FPA―3030i6=写真」を同日発売したと発表した。... 露光時間をより短縮しながら、長時間運転できるようにする。.....
従来、複数回必要だったEUV露光の工程を削減し、コスト低減に寄与する。 ... EUV露光工程の最適化に加え、リソグラフィー欠陥の低減に役立ててもらう。EUV露光は先端半導体の製造に...
三井化学は半導体製造用の次世代露光装置で使われるカーボンナノチューブ(CNT)ペリクルを量産する。... 傷やホコリを付きにくくする機能を持ち、露光工程の生産性を向...
リンテックは半導体回路パターンの微細化に対応できるEUV露光装置で、開発したペリクルの使用を想定。露光工程の生産性向上に寄与する。 ... EUV露光プロセスではこれまでのフッ化アル...
最先端のEUV露光機に対応したカーボンナノチューブ(CNT)膜ペリクルの開発を目指す。... 傷やホコリを付きにくくする機能があり、フォトマスクの検査・交換頻度を抑制し露光工程の生産性...
同装置は、露光工程で使うレチクルやマスクといった回路を描いた原版のパターン面やその裏側のガラス面、パターン表面の保護膜(ペリクル)面に、品質不良の原因となる極微小な異物が付着していない...
液晶や有機ELなどのフラット・パネル・ディスプレー(FPD)の露光工程で使用するFPDペリクルで世界トップシェアを占めている。 ... ペリクルは半導体や液晶パネルの...
(回路パターンの露光工程に使う)フォトレジストは20―21年にかなり投資し、25年までの需要に対応できる。
同社にあるロボットは、基板上の回路の外観を検査する工程や露光工程などを担う。... 例えば、露光工程ではロボットがハンドに基板を吸着させ、隣に位置するロボットに基板を渡す作業がある。... 検査工程で...
中でも半導体の露光工程では、極端紫外線(EUV)の導入が拡大すると見ており、関連材料は伸長するだろう」 ―マーケティングの強化を重点課題に掲げています。 &#...
三井化学は半導体やフラットパネルディスプレー(FPD)の製造工程で使われる部材のペリクル事業を旭化成から取得する。... ペリクルは半導体やFPDの露光工程で微細パターンの描...
微細化需要の高まりを背景にEUV(極端紫外線)露光工程の導入拡大が見込まれる一方、EUVは従来の露光方法と比べて回路線幅のばらつきが生じやすいなどの課題がある。
半導体関連事業で主力の半導体製造装置向けマスフローコントローラー(ガス流量制御機器)で従来品比8倍の超高速応答の新製品を、露光工程向けで高精度なレティクル・マスク異物検査装置の新製品を...
工場照明はすべて発光ダイオード(LED)に切り替えたが、半導体工場には露光工程があるので紫外線は使えない。
調査会社の富士経済(東京都中央区)によると、半導体に回路パターンを焼き付ける露光工程で使うフォトレジスト市場は、2026年に20年実績から5割超拡大する見通しだ。 昭...
半導体に回路パターンを焼き付ける露光工程向けの感光材「フォトレジスト」は、液浸フッ化アルゴン(ArF)露光などに対応する最先端製品の生産能力を19年度比2・25倍に引き上げる。... ...
愛媛工場では、洗浄工程で使う高純度硫酸の生産能力を現行比2倍近くに引き上げる。... 半導体に回路パターンを焼き付ける露光工程向けの感光材「フォトレジスト」は、液浸フッ化アルゴン(ArF...
ポリマー関連技術で新領域開拓 三井化学は、半導体製造工程で主要部材のフォトマスクを保護する膜製品「ペリクル」と半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を2本柱に、半導体材料事業を拡大...
