同ルームは電子線描画装置、原子膜堆積(ALD)装置など半導体製造に必要な各種設備をそろえる。そうした中で、実習では90年代に普及した各種装置も活用している。

その結果、計画通りに生産できないなど、半導体成膜・エッチング装置のユーザーにとって大きな課題となっていた。 ... 原子層堆積(ALD)装置においてプロセスガスの変更...

【明電ナノプロセス・イノベーション/基板にダメージ与えず】 明電ナノプロセス・イノベーション(東京都品川区)は、独自の高濃度・高純度オゾン発生技術を用いたバ...

【オプトラン/スマホ向けALD装置紹介】 オプトランはスマートフォンや発光ダイオード(LED)向けで採用が進む原子層堆積(ALD...

発売したのはプラズマALD装置「AD―800LP」で消費税抜きの価格は8800万円。... 従来の熱ALD装置より低温での成膜が可能で、温度に敏感な膜材料にも適応する。... ALD装置は東京エレクト...

半導体や電子デバイス向けに年約3億円を売り上げるALD装置の、ヘルスケア分野への用途開発を進め、5年後に30億円規模に育てる計画。... ALD装置は原子層堆積法でナノスケールの薄膜を形成する装置で、...

オプトラン/スマホ向け原子層堆積装置 オプトランはスマートフォンやミニ・マイクロLED(発光ダイオード)向けの原子層堆積...

オプトラン/プラ基板に光学多層成膜 オプトランはプラスチック基板への光学多層成膜が可能なプラズマ原子層堆積(ALD)装置「ALDER―800P=写真...

ピコサンの成膜装置に日立ハイテクのプラズマ技術を組み合わせ、プラズマ原子層堆積(PE―ALD)装置を共同で開発する。 2017年秋に技術を確立し、その後装置の製品化や...

粉体に成膜加工できる装置などを卓上型原子層堆積(ALD)装置「SAL1000シリーズ」として、2016年12月に発売した。 ALD装置は半導体用シリコンウエハーなどの...

菅製作所(北海道北斗市、菅育正社長、050・3734・0730)は、粉体に成膜加工できる装置などを卓上型原子層堆積(ALD)装置「SAL1000シリーズ」として発売した...

炭化ケイ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)を使ったパワー半導体のゲート酸化膜形成用に、原子層堆積(ALD)装置を開発し発売した。... ALD装置は1...