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記事検索結果
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回路線幅の微細化や量産に伴う、低コスト化が進めば、さらなる市場拡大も予想される。 ... 市場開拓の武器となるのが回路線幅の微細化。ザイリンクスは10年内に、アルテラは11年1―3月に回路線幅...
同製品は回路線幅0・6マイクロメートルのBiCMOSプロセスで製造。... パルス幅変調による調光制御にも対応している。
自動車の制御系ECU(電子制御ユニット)に組み込まれるマイコンのメモリー容量は現在の量産品で2メガ―4メガバイトに達し、開発中の回路線幅65ナノメートル(ナノは10億分の1...
日立情報通信エンジは米アルテラの回路線幅40ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の最新FPGA「ストラティックスIVGX」を2個配置した画像処理開発検証ボードを製品化。... FPG...
東京エレクトロンは25日、回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以降の半導体製造プロセスに用いる新プラズマ技術を採用したエッチング装置を開発し、受注を始めたと発表した。 ...
4月からマスクの回路線幅が1マイクロメートル(マイクロは100万分の1)クラスのマスク生産を開始、生産規模を従来の同2マイクロメートルとあわせて月産1500枚(5インチ換算...
量産されているMRAMは電流磁場書き込み方式と呼ばれ、回路線幅の微細化が進むにつれて、書き込み電流量が増えるのが課題。線幅55ナノメートル以降の世代になると、セルサイズを小さくすることが難しい。...
ニコンは17日、都内で露光装置に関する説明会を開き、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の最先端半導体製造ラインに採用されるフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF...
岩手工場(岩手県金ケ崎町)の直径6インチウエハーラインを閉鎖するのに伴い、回路線幅350ナノメートル(ナノは10億分の1)、同500ナノメートルプロセスによるFRAM生...
ニコンは回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の最先端半導体製造ラインに採用されるフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸露光装置の最新機種「NSR―S...
ファウンドリー(半導体受託製造)世界最大手の台湾TSMCは回路線幅40ナノ・45ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスの先端半導体の生産能力を倍増し、2010年10...
米ザイリンクスが台湾TSMCと韓国サムスン電子に回路線幅28ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスによるFPGA(フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ)を製造...
回路線幅65ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスによる単一チップ上に、無線LAN、全地球測位システム(GPS)、FM送受信、ブルートゥース(携帯情報機器向...
米サンフランシスコ市で開催中の国際固体素子回路会議(ISSCC)で10日発表した。 ... 現在、AD変換器は回路線幅65ナノメートル(ナノは10億分の1)で設...
ニューモニクスはPRAM開発で先行しており、回路線幅45ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用した1ギガビット品を出荷する段階にあり、マイクロンにとっても魅力。
ノイズの少ない方式を採用したことで、外付けのフィルターを不要にし、回路面積を従来比3分の1以下にした。... 回路線幅65ナノメートル(ナノは10億分の1)の相補型金属酸化膜半導体...
回路線幅90ナノメートル(ナノは10億分の1)プロセスを採用し、消費電力を同約67%抑えており、家電の省エネに貢献する。