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記事検索結果
38件中、2ページ目 21〜38件を表示しています。 (検索にかかった時間：0.003秒)
【福井】信越化学工業は11日、武生工場(福井県越前市)にあるフォトマスクブランクスの工場棟を増設すると発表した。... フォトマスクブランクスは回路を半導体ウエハーに転写する際の原版で...
電子事業は需要が見込める極端紫外線(EUV)露光用のフォトマスクブランクスの供給体制を拡充する。
旭硝子グループのAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)は5日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けにフォトマスクブランクスを増産すると発表した。... フォト...
レーザーテックはマスクブランクスの検査装置で実績を持つ。... そこでEUVマスクブランクス欠陥検査装置の販売に合わせて改良を継続していく方針だ。... 検査時間はマスクブランクス1枚当たり45分。
【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/受注も好調】 超高真空下での極端紫外線(EUV)マスクブランクス欠陥の検査装置開発は初めて。
【横浜】レーザーテックは、薄型ディスプレー(FPD)用大型マスクブランクス(原版)欠陥検査装置「LBIS(エルビス)」を改良し、近く投入する。... F...
新製品はEUVマスクブランクスの多層膜内部にEUV光を照射し、欠陥によって散乱する光を検出して欠陥の有無を判定する。... 検査時間はマスクブランクス1枚当たり45分。... EIDECとEUVマスク...
主な事業部の営業利益は、主力の塩ビ・化成品が同21・0%増の443億円、半導体シリコンが同5・8%増の395億円、半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの販売が増えた電子・機能材料...
欧米子会社が健闘した塩ビ・化成品は同24・8%増、化粧品や建材向けが多いシリコーンは同0・3%増、半導体シリコンが同14・7%増、HV用磁石や半導体製造工程で使うフォトマスクブ...
【横浜】レーザーテックは、薄型ディスプレー(FPD)生産で使用する大型マスクブランクスの欠陥を高感度かつ短時間に検査できる装置の上位モデル「LBIS(エルビス)」を発売...
アルバック成膜は半導体や液晶表示装置(LCD)向けのフォトマスク生成用ネガフィルム「マスクブランクス」の製造が主体。
信越化学工業は18日、福井県越前市に半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの工場を新設すると発表した。... フォトマスクブランクスはシリコンウエハー上に回路を描画する際に回路の原版に使うフォトマ...
レーザーテックは欠陥検出感度を従来比30%向上したマスクブランクス欠陥検査装置「M8350/M8351」の受注を開始した。... レジスト塗布済みのマスクブランクスにも対応しており、...
HOYAはシンガポールに半導体製造用マスクブランクスの新工場を建設する。マスクブランクスは半導体の回路パターンをウエハーに転写する原版。
基盤技術である光応用技術にさらに磨きをかけながら、新規顧客の獲得に邁進(まいしん)していく」 《半導体のマスクブランクスや液晶用大型マスク検査装置では世界シェア100%...
半導体製造装置に用い、ハーフピッチ22ナノメートルを可能とする極端紫外線(EUV)露光装置用マスクブランクスの商業化を加速化させ、2013年ころの実用化を目指す。両社で欠陥のないEUV...
