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25年度には元の成長軌道に戻る」 ―極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの好調は継続しますか。
マイクロンを中心にさらなる成長を目指したい」 ―マイクロン・テクノロジーは国の補助金を活用して極端紫外線(EUV)技術を導入し、先端半導体を生産する計画です。 ...
GMが23年に販売したEVは7万5000台で、その大半はコンパクト「シボレー・ボルト」とやや大型の「ボルトEUV」だった。
米マイクロン・テクノロジーも広島工場で、国内で初めてEUV(極端紫外線)露光装置を使った次世代メモリー半導体の量産を計画する。
レーザーテックは、自社開発の高輝度極端紫外線(EUV)プラズマ光源を標準搭載したEUV露光用マスクパターン欠陥検査装置「ACTIS A300」の受注を始めた...
競合と協力する必要も出てくるかもしれない」 ―極端紫外線(EUV)マスクの状況と今後の方針は。 ... 試作はある程度、上福岡工場(埼玉県ふ...
極端紫外線(EUV)関連も、これからかなり期待する領域だ」 ―次世代EUVペリクルの開発に取り組む計画です。
リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。... リンテックは半導体回路パ...
三井化学は2025―30年に、半導体の製造工程で使われる次世代の極端紫外線(EUV)ペリクルを実用化する方針だ。... 最先端のEUV露光機に対応したカーボンナノチ...
TOPPAN/次世代2ナノメートル、米IBMに供給 EUV露光に対応するEUVマスクは描画パターンが多く、描画時間を大幅に短縮できるマルチビーム描画装置での製造が主流。.....
【横浜】レーザーテックは自社開発の高輝度極端紫外線(EUV)プラズマ光源を標準搭載したEUV露光用マスクパターン欠陥検査装置「ACTIS A300=...
当社も26年度以降に朝霞工場(埼玉県新座市)で極端紫外線(EUV)マスクの量産ライン設置を検討している」 ―フォトマスクでは世界8拠点を持ちます。&#...
半導体業界の需要は2024年度には回復するとみており、材料の出荷量も増えると考えている」 ―半導体分野では、レジストポリマーは最先端の極端紫外線(EUV)やフッ化アル...
一方、蘭ASMLとは極端紫外線(EUV)装置で現状2回露光しているのを1回に減らすため、前後の工程でどのような処理が必要かなどを共同で研究しており、良い結果が出始めている。
次世代半導体の量産を目指すラピダス(東京都千代田区、小池淳義社長)は、北海道千歳市に建設中の工場で微細加工に不可欠な極端紫外線(EUV)露光装置を2...
さらに同社が得意とする分光技術を応用して、ペリクルが破れる予兆を測定し歩留まり向上につなげる機能の開発も、最先端の極端紫外線(EUV)プロセス向けに進めている。
