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記事検索結果
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また、速度がDRAMとNANDの中間のメモリーを開発できないか考えている」 ―NANDにおいて、極端紫外線(EUV)露光装置の導入の可能性はありますか。 &#...
【東大阪】フジキン(大阪市北区、田中久士社長)は徳島大学と共同で、半導体製造プロセスガスをリアルタイムに計測できる濃度計「紫外線(UV)吸収式高温濃...
フッ化アルゴン(ArF)フォトレジスト用感光性ポリマーの設備を2025年10月、極端紫外線(EUV)フォトレジスト用同ポリマーの設備を25年9月に稼働する予定。
オゾンガスをモニタリングするのに使う光源に紫外線発光ダイオード(UV―LED)ランプを採用。... この際、オゾンが紫外領域の波長を強く吸収する性質を利用した「紫外線吸収法」が使われて...
このため回路線幅の超微細化ニーズが高まっており、微細化回路形成用の極端紫外線(EUV)露光技術の採用が本格的に拡大している。
ポリカ樹脂は耐熱温度が120度Cでナイロン樹脂の80度Cを上回るほか、屋外で長く使用しても紫外線による変色を抑えられるのが特徴だ。
高い通気性と紫外線遮蔽(しゃへい)性を両立した。 ... 爽多はスリット状の高通気部分を設け、3次元(3D)的に隙間を空ける織物構造体にしたことで、高...
漏えい部位に充填剤を塗布し、紫外線(UV)を1センチメートル以内の近距離から1秒間照射して充填剤が硬化すれば完了する。
東工大の上野雄一郎教授らの研究チームは、主に二酸化炭素(CO2)から成る火星の大気を模した気体に太陽光(紫外線)を当てる実験を実施。
3Dゲルプリンターを構成する紫外線(UV)レーザーヘッド部を秀機(山形県高畠町)、筐(きょう)体・塗装を島津鈑金製作所(同)、全体の組み...
線幅数ナノメートル(ナノは10億分の1)世代の最先端半導体の製造に必要な極端紫外線(EUV)露光装置の開発からニコンとキヤノンが事実上撤退し、ASMLのみが供給できるよ...
アムステルダムで開催されたテクノロジーシンポジウムに参加したTSMCのケビン・チャン上級副社長はASMLの高NA(開口数)極端紫外線(EUV)露光装置について、「非常に...
