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露光光源は波長436ナノメートルの可視光線「g線」から同365ナノメートルの紫外線「i線」、同248ナノメートルの「フッ化クリプトン(KrF)エキシマレーザー」へと順に移行。
一方で、ArFドライ露光装置のほか、普及機に相当するフッ化クリプトン(KrF)やi線を光源に採用した露光装置は、受注が弱含んでいる」 ―受注低迷はメモリーの市況悪化が背景にあり...
また、ArF液浸露光装置が必要なのはトランジスタ配線層が30あるうち4―5層のみで、残りの25―26層は装置価格の安い一世代前のKrF(フッ化クリプトン)やArFドライ露光装置を用いる...
クリプトンガスの採用だ。当時の電球業界では「クリプトン球は明るいが、製造時に危険を伴う」といわれていた。しかし手作り歴の長い千葉らにしてみれば「クリプトンガスはアセチレンガスと同じように扱える簡単なも...
露光光源の短波長化は、チップ上の回路線幅がマイクロメートルからナノメートル単位に微細化するに連れて、波長436ナノメートルのg線から同365ナノメートルのi線、同248ナノメートルのフッ化クリプトン&...
露光光源は半導体回路の微細化が進むに連れて、波長436ナノメートルの可視光線「g線」から365ナノメートルの紫外線「i線」、さらに248ナノメートルの「フッ化クリプトン(KrF)エキシ...
同248ナノメートルのフッ化クリプトン(KrF)露光装置もスループットを向上した機種を投入する」 ―半導体の回路微細化に対応したArF露光装置の受注見通しは。