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記事検索結果
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地元企業との製品価格競争も厳しいため、闇雲に規模を追うよりも、回路線幅1・5ナノメートル(ナノは10億分の1)まで視野に入れた最先端プロセス分野に狙いを絞る。
2022年には同工場で回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)の半導体の量産開始が発表された。
ここで言う先端半導体には、回路線幅16ナノメートル(ナノは10億分の1)もしくは同14ナノメートル以下のロジック半導体が含まれる。 &#...
300ミリメートルウエハーに対応し、同社としては先端プロセスとなる回路線幅22ナノ―28ナノメートル(ナノは10億分の1)を採用するとみられる。
半導体の受託生産最大手、台湾積体電路製造(TSMC)は29日、回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)半導体の量産を開始した。
(回路パターンの露光工程に使う)フォトレジストは20―21年にかなり投資し、25年までの需要に対応できる。2ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の回路線幅を実現する新...
回路線幅2ナノメートル(ナノは10億分の1)品を開発・量産する新会社「ラピダス」を設立、開発予算700億円で船出した。
TSMCは、米西部アリゾナ州で建設中の工場の近くに、世界でも量産体制が確立していない最先端の回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)の工場を新設すると発表。
新会社は、TSMCとサムスン電子が2025年の量産着手を目指す回路線幅「2ナノメートル(ナノは10億分の1)」の最先端ロジック半導体の製造技術を今後5年程度で取得し、27年ごろに量産す...
関西圏の半導体人材などを雇用し、顧客に回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)といった先端製品の設計を技術面で支援する。
TSMCの熊本工場は回路線幅26ナノメートル(ナノは10億分の1)という約10年前の成熟した技術を採用する。... 日本の保有技術だけでは回路線幅2ナノメートル以下の半導体をつくれない...
米IBMなどと連携し回路線幅2ナノメートル(ナノは10億分の1)のロジック半導体の集積化技術や製造技術開発を進める。... 最先端の回路設計技術や素材開発などを担う。
米IBMとの日米連携体制の下で回路線幅2ナノメートル(ナノは10億分の1)のロジック半導体の集積化技術や製造技術開発を進める。... 最先端の回路設計技術や素材開発などを担う。
新拠点にはシリコンウエハー上の不要な部分を削り取るエッチング装置をはじめ、回路線幅が設計通りかを測る測長SEMなどを設置。
「新工場はいずれも300ミリメートルエピタキシャルウエハーの製造設備を導入し、回路線幅7ナノ(ナノは10億分の1)メートル以下の先端半導体向けが中心。
国内の半導体人材を雇用して、台湾などの設計人材と協力し、顧客による回路線幅3ナノメートル(ナノは10億分の1)といった先端製品の採用を技術面からサポートする。
