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記事検索結果
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複数の投影レンズを精密に制御するフラットパネルディスプレー(FPD)露光の技術を応用し、フォトマスクを使わず配線パターンを露光する「デジタル露光」を採用。フォトマスクを使う場合に比べ、...
環境配慮型パッケージを軸とする生活産業系、新興国向けのパスポートや国民IDの製造・発行などを含むセキュアビジネス、フォトマスクなどのエレクトロニクス系で非常に手応えがある。
同社はTOPPANホールディングス(HD)傘下でフォトマスク(半導体回路の原版)の製造・販売を手がける。... トッパンフォトマスクはフォトマスクの外販事業者として世界...
また、フォトマスクなどのサプライチェーン(供給網)の構築を進め「3―5年後には年間十数台の販売を目指す」(岩本副事業本部長)。... 【用語】ナノインプリントリソグラフ...
回路パターンが描かれたフォトマスクに光路を遮らずに正面から照射する光学系を考案した。新技術はフォトマスクからシリコンウエハーまではミラーを2枚しか使わない。... 従来はマスクからウエハーまで少なくと...
ペリクルはフォトマスク(半導体回路原版)の表面に装着する薄い防塵膜で、半導体製造の前工程である露光の生産性を高められる。
また、大規模フォトマスクデータブラウザー『HOTSCOPE』の中国など海外市場への売り込みを強化する。
フォトマスクは両社ともに通期で好調と見ているが、TOPPANホールディングス(HD)は「半導体パッケージ基板の『FC―BGA』が24年前半は厳しい」(黒部隆取締役常務執行役員&...
パワー系やフォトマスク、表面弾性波(SAW)フィルターなど成長が見込め、日本が強みを発揮できる分野に積極投資し事業ポートフォリオを組み替えることが、賃上げ原資確保において極めて重要にな...
大日本印刷(DNP)は27日、極端紫外線(EUV)リソグラフィーに対応した2ナノメートル(ナノは10億分の1)世代のロジック半導体向けフォトマスク...
回路パターンを描いたフォトマスクのわずかなキズや汚れ、歪みなどの欠陥は大量の不良品を生んでしまう。URASHIMAはパターン付きマスクの検査を露光光源と同じEUVで行う同社の検査装置「ACTISシリー...
米IBMの最先端半導体研究開発拠点であるアルバニー・ナノテク・コンプレックス(ニューヨーク州)とトッパンフォトマスクの朝霞工場(埼玉県新座市)でフォトマスクを共同開発す...
対象顧客は、光学ブレッドボード、ウエハー検査装置、フォトマスク検査装置といった精密機器のメーカーなど。
「(フォトマスク事業の売り上げの)大きな割合を占める中国を中心としたスマートフォン関連のハイエンドのフォトマスクが、スマホの売れ行きが低調で(2023年は)前年より下が...
「前工程で強いのはフォトマスクカバーのペリクルや、半導体向けガスだ。
リンテックは極端紫外線(EUV)露光装置向けに、フォトマスク(半導体回路の原版)の防塵カバー「ペリクル」を開発した。... ペリクルは微細パターンが...
ガラス基板にも対応 ウシオ電機は半導体製造装置最大手の米アプライドマテリアルズと共同で、フォトマスク(半導体回路の原版)を必要としないデジタルリソグラフィー技術...
25年の竣工を目指し、前倒しで計画を進める」 ―フォトマスク(半導体回路の原版)向け洗浄装置の新製品を24年に発売予定です。
