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記事検索結果
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新技術の活用で、従来のAD法で課題となっていた塗布ムラを解消できる。 ... AD法による成膜性を確保しつつ、半導体の特性を失わずに成膜できるようにした。 従来のA...
近年では、コールドスプレー法やエアロゾルデポジション(AD)法など、粒子を溶融することなく衝突させて力学的エネルギーを利用して積層させるプロセスも登場しており、広義にはそれらも含めて溶...
電極と固体電解質の接合が強固でないという課題を解決するため、産総研独自のセラミック膜の成膜法であるエアロゾルデポジション(AD)法を用いて、単結晶固体電解質基板に正極を製膜した。
また、TOTOが世界で初めて実用化に成功した「エアロゾルデポジション(AD)法」によるセラミックスの成膜技術は、半導体の製造プロセスでの粉じんの発生数を10分の1から20分の1に抑制。...
日本発祥の独自技術「AD法」を活用して世界最高レベルの半導体製造装置用低発塵部材を製品化した。
任用したのは半導体製造装置に搭載する電極の表面改質技術「エアロゾルデポジション法(AD法)」の開発などで社内外に知られる清原正勝氏。
そんな折り、エアロゾルデポジション(AD)法という産業技術総合研究所のシーズ成果を知り、門をたたく事となった。 ... 常温衝撃固化現象と名付けられたこの現象をコーテ...
TOTOは独自技術「エアロゾルデポジション法(AD法)」によって電極表面に緻密で強固なセラミック膜を形成。... AD法の発想の原点は米航空宇宙局(NASA)のスペース...
同社のチャンバー関連部材は、微細なセラミックスを高速で吹き付ける「AD法」でコーティングし耐久性を高めている。従来のコーティング法と比べ3倍の2年間の使用に耐えられるという。
合成に用いた方法は、産業技術総合研究所の明渡純上席研究員によって開発された「エアロゾル・デポジション法(AD法)」。... AD法では、噴射されたMgとBがぶつかり合い、衝撃効果などに...
産総研が開発したセラミックス材料の常温プロセスであるエアロゾルデポジション(AD)法を使う。... 新工法のAD法を使い、蓄電池としての充放電特性を確認した。 AD法...
これが産総研オリジナルの成膜技術であるエアロゾルデポジション法(AD法)で、「セラミックスは原料粒子を高温で焼結して緻密化する」という常識を覆すものであった。 【応用分野を拡大...