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記事検索結果
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CVD・ALDプリカーサ材料の供給力強化 JX金属のグループ会社である独タニオビスは、独ゴスラーの拠点に次世代半導体向け化学気相成長法(CVD)・...
同ルームは電子線描画装置、原子膜堆積(ALD)装置など半導体製造に必要な各種設備をそろえる。
JX金属は次世代半導体向けに、薄膜形成プロセスで用いられる化学気相成長法(CVD)・原子層堆積法(ALD)材料の生産能力を増強する。... JX金属はこれまで、茅ケ崎工...
半導体製造に必要なALD(原子層堆積法)成膜・評価装置の台数を増やし、最先端の半導体成膜材料の評価・分析機能を拡充する。
半導体を製造する際のCVD(化学気相成長法)やALD(原子層堆積法)といった技術に用いる化合物「プリサーカー」が、JSRの製品群に加わる。... CVDやALDプリカー...
成膜工程に用いるALD(原子層堆積)材料や成膜助剤、後工程向けのプロセス材料など半導体関連材料の開発を中心に担う。
【オプトラン/急峻な立体構造に緻密な成膜】 オプトラン(埼玉県鶴ヶ島市)は、ALD(原子層堆積法)装置「ALDER...
【シンクロン/ALD法など高難度成膜技術】 シンクロン(横浜市西区)は、蒸着とスパッタの両方式の進化に技術力で貢献し、真空薄膜の可能性を広げてきた。現在は未...
新技術は分子線エピタキシャル成膜法(MBE)や原子層堆積法(ALD)に比べ、電気・光学特性設計のためドーピング量などの制御が可能。
三菱HCキャピタルは1日、フランスのオートリース大手ALDと、タイでオートリースの共同事業会社「ALD MHCモビリティー・サービシズ(タイランド)」(略称、AMT&#...
原子層堆積(ALD)装置においてプロセスガスの変更による高温環境での使用にも対応可能にした。
旺盛な好奇心 未来拓く ADEKAの岡田奈奈さん(32)は半導体の微細化を支えるALD(原子層堆積)材料の開発を...
【明電ナノプロセス・イノベーション/基板にダメージ与えず】 明電ナノプロセス・イノベーション(東京都品川区)は、独自の高濃度・高純度オゾン発生技術を用いたバ...
【オプトラン/スマホ向けALD装置紹介】 オプトランはスマートフォンや発光ダイオード(LED)向けで採用が進む原子層堆積(ALD...
従来のALDでは難しかった窒化膜や導電性のある金属膜などにも対応した。... ALDは化学気相成長法(CVD)の一種。... 従来の熱ALD装置より低温での成膜が可能で、温度に敏感な膜...
【仙台】東北特殊鋼は半導体関連向けなど特殊製品への対応を強化するため、8月にも新設中の真空溶解炉(2トン、独ALD社製=写真)を本社工場(宮城県村田...
明電ナノプロセス・イノベーション(NPI、東京都品川区、高田壽士社長)は、高純度100%オゾン(ピュアオゾン)を酸化源とする成膜装置「バッチ...
半導体や電子デバイス向けに年約3億円を売り上げるALD装置の、ヘルスケア分野への用途開発を進め、5年後に30億円規模に育てる計画。... ALD装置は原子層堆積法でナノスケールの薄膜を形成する装置で、...
オプトラン/スマホ向け原子層堆積装置 オプトランはスマートフォンやミニ・マイクロLED(発光ダイオード)向けの原子層堆積...
同分野向けなどに用いる真空溶解炉(1トン)が老朽化しており、現在新炉(2トン、独ALD社製)への更新作業を進めている。
