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リンテック、EUVペリクルのサンプル提供開始半導体微細化に貢献（2024/7/12 総合１）

リンテックは次世代極端紫外線(EUV)露光装置用カーボンナノチューブ(CNT)ペリクル(防塵膜)を開発しサンプル提供を始めた。......

復権半導体/三井化学専務執行役員ICTソリューション事業本部長・平原彰男氏（2023/12/20 素材・建設・環境・エネルギー１）

「前工程で強いのはフォトマスクカバーのペリクルや、半導体向けガスだ。... 当社と旭化成両社の強みが融合していると認識している」 ―ペリクル事業で今後成長を期待する分野は。 ...

三井化学、“次世代EUVペリクル”25年にも実用化半導体微細化に対応（2023/12/15 総合１）

三井化学は2025―30年に、半導体の製造工程で使われる次世代の極端紫外線(EUV)ペリクルを実用化する方針だ。... 最先端のEUV露光機に対応したカーボンナノチ...

三井化、ライフ&ヘルス収益源長計の具体策（2022/2/17 素材・医療・ヘルスケア２）

最先端の半導体プロセスに使うEUVペリクルやイクロステープの更なる設備増強も検討する。

「最先端半導体の製造工程部材『EUVペリクル』の商業生産が始まるなど、目標の売上高1000億円へ順調だ。

三井化学、MLCC製造工程用離型フィルム15%増強休眠設備の運転再開（2021/7/13 素材・医療・ヘルスケア）

最先端半導体製造用のフォトマスク保護膜「EUVペリクル」や半導体製造工程用テープ「イクロステープ」を展開し、中期的にICT分野で売上高1000億円規模を目指している。

沸騰・半導体市場素材各社の戦略(4)三井化、2本柱で事業拡大（2021/6/17 素材・医療・ヘルスケア）

同社はEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからEUVペリクルの技術供与を受け、5月までに岩国大竹工場(山口県和木町)で生産設備の商業生産を開始した。... 透過率が低いと露光時間が長くな...

EUV露光、拡大に期待蘭ASMLがペリクル開発、微細化に道（2021/6/10 総合３）

EUV露光装置を手がける蘭ASMLが、露光工程の歩留まり低下を防止する「ペリクル(防塵カバー)」を量産用途のEUV向けで初めて開発した。... ASMLは双方を両立したEUVペリクルを...

EUV半導体材料の需要拡大素材各社、回路微細化で商機（2021/6/7 素材・医療・ヘルスケア）

EUV用は少量でも、高価で収益寄与が大きい。... 三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォトマスク保護膜「EUVペリクル」の商業生産を始めた。......

三井化学、防塵カバーを商業生産 EUV露光プロセス向け（2021/6/1 素材・医療・ヘルスケア）

三井化学は、極端紫外線(EUV)露光プロセスで使われるフォトマスクの防塵カバー「EUVペリクル=写真」の商業生産を開始した。... ペリクルで培った異物管理などの生産ノウハウを...

化学各社、EUV向け素材の供給体制整備（2019/6/27 素材・医療・ヘルスケア）

EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場が本格化しそうだ。... 三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。ASMLはE...

三井化、蘭ASMLと契約岩国大竹工場に新設備（2019/6/3 素材・医療・ヘルスケア）

ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」を独占的に生産、供給する。... 超高速通信の第5世代通信(5G)の実用化に伴い、半導体の微細化ニーズは...