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東京都市大、絶縁膜上に大面積ゲルマニウムウエハーを作製する技術開発
(2016/6/28 05:00)
東京都市大学総合研究所ナノエレクトロニクス研究センターの澤野憲太郎教授らの研究グループは、絶縁膜上に３００ミリメートル以上の大面積のゲルマニウムウエハーを作製す...
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(2016/6/28 05:00)
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