経産省、米マイクロンに1920億円助成 先端半導体の量産開発支援

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  米マイクロン・テクノロジーの広島工場

経済産業省は３日、米マイクロン・テクノロジーが広島工場（広島県東広島市）で進める先端半導体の量産開発に、計１９２０億円を助成すると発表した。生成人工知能（ＡＩ）やデータセンター、自動運転などに使われる先端半導体の確保や技術育成の観点で、支援すべきだと判断した。

マイクロンが２０２５年１２月―２６年２月の出荷を目指している、国内で初めてＥＵＶ（極端紫外線）露光装置を使った次世代メモリー半導体の量産に最大１６７０億円、同半導体を積層した先端ＤＲＡＭ開発や量産に同２５０億円を助成する。次世代半導体の生産能力は直径１２インチウエハー換算で月４万枚を予定。支援の条件として１０年間の継続生産や、需給逼迫（ひっぱく）の際には日本政府からの増産要請に応じるといった項目を求める。

西村康稔経産相は「半導体市況やマイクロンの業績は苦しいが、将来のためにも今投資することが重要だ」と意義を説明した。