BMF、次世代フラッグシップ3Dプリンター「microArch(R)S230」を発売開始

―超高精度マイクロスケール3Dプリントシステム

精密製造分野で世界トップクラスの精度を誇るマイクロスケール3DプリンターメーカーであるBMF（Boston Micro Fabrication、ボストン・マイクロ・ファブリケーション）は2µmシリーズの次世代超高精度3Dプリンター「microArch(R)S230」を4月18日（月）より正式に販売開始致します。





光学解像度2µmシリーズの3Dプリンターは、BMFで最も高い精度を実現するマイクロスケール産業用3Dプリントシステムであり、±10µmという加工公差の要求を満たすだけでなく、5µmまでの3Dフィーチャーサイズ（最小加工サイズ）を確実に再現することができます。microArch(R)S230は特に、マイクロニードル、マイクロ流体、マイクロアレイ、公差要求が高い部品など、従来の射出成形やCNCでは加工が困難な部品の製造に最適です。

第一世代のmicroArch(R)S130に比べて、アップグレードされたmicroArch(R)S230は、2μmという超高解像度を維持しながら、造形サイズは3倍、高さで5倍まで拡大しています。また、新しく搭載されたレーザー測定システムと独自のローラーシステムにより、操作性の向上、造形時間の短縮を図り、更に適用材料の拡充も実現しています。
　　　　　　　　　　




造形面積の最大化

microArch(R)S230の最大造形サイズは50mm×50mm×50mmとなり、第一世代のmicroArch(R)S130対比でより大きなモデル造形が可能となりました。
　　　　　　

　　　　　　　



造形速度の向上

ローラーシステム（Roller System）が搭載されていることによって、光学解像度2µmの超高解像度を維持しながら、造形時間をmicroArch(R)130より最大で約80％短縮することができます。

　　　　　　　　　　　




多様な材料に対応

microArch(R) S130は、粘度が約300cpsの樹脂のみが適用可能でしたが、新たなローラーシステムを搭載しているmicroArch(R)S230では粘度が1000cps以上の樹脂にも対応し、適用材料の拡充を実現しています。更に、microArch(R)S230で利用可能な、200℃以上の耐熱性のある樹脂やセラミック材料など、更なる高粘度の材料の開発適用に取り込んでいます。


操作性の向上

microArch(R)S230は、新たにレーザー測定システムを搭載し、印刷プラットフォーム及び膜システム位置を正確に測定することで、キャリブレーション作業（水平調整及び焦点調整）をより簡便・容易に行えるようになっています。


(1)格子構造：ロッド径50μm；(2)バッキーボール(Bucky ball)：ロッド径50μm；(3)エッフェル塔：最小ロッド径30μm；(4) マイクロニードルアレイ：先端径10μmなどがございます。


microArch(R)S230 スペック

動作原理 : プロジェクション·マイクロ·ステレオリソグラフィー（PµSL）
光源: UV LED(405nm)
造形材料：光硬化性樹脂
光学解像度：2μｍ
積層厚：5～20μｍ
最大造形サイズ：50mm(L)×50mm(W)×50mm(H)
ファイル形式：STL


microArch(R)S230の紹介動画

BMFについて

BMF社（BMF, Boston Micro Fabrication）は、世界の精密製造分野で3D造形をリードする企業で、自社開発の超高解像度マイクロスケール3D印刷技術に基づいて、世界の製造業市場に常識を打ち破る精密製造技術を提供します。BMF社の超高精度AM技術により、切削加工や金型では難しい複雑な3D微細構造を実現しています。そして、多彩な材料とプロセスを組み合わせることで、最終製品を低コストかつ高効率で生産·販売することを可能にします。

連絡先

BMF Japan株式会社
〒103-0022
東京都中央区日本橋室町4-4-3 喜助日本橋室町ビル5F Nano Park
TEL:[phone]
FAX:[phone]
Email: [e-mail]
Website: https://www.bmfjapan.jp/

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情報提供元：PRTIMES
本リリースの掲載元：https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000004.000059279.html