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記事検索結果
201件中、10ページ目 181〜200件を表示しています。 (検索にかかった時間:0.002秒)
ステージ制御方式の見直しにより、一時間当たりのウエハー処理枚数を表すスループットを60枚(直径150ミリメートルウエハー)に引き上げた。
スループット向上策では、ニコンはウエハーステージに新コンセプトを導入する。... これにより、現在のスループット130枚の倍増を目指す。 ... これによりスループット150枚を200―250...
「1時間当たりのウエハー処理枚数を表すスループットを向上するのはもちろん、巨額投資をした半導体メーカーが一日でも早く生産を始められるように装置の設置時間を短くした。
同32ナノメートルの次世代プロセスで必要になる2回露光(ダブルパターニング)用の機種で、1時間当たりのウエハー処理枚数を示すスループットを現状の2倍にするほか、重ね合わせ精度を従来の6...
露光光源に放電生成プラズマ(DPP)を採用している同機は、出力が上がらず、現状のスループットは2枚程度にとどまっている。 ... LPPを用いて光源出力を上げれば、スループット...
1時間当たりのウエハー処理枚数を表すスループットを従来比30%向上したほか、重ね合わせ精度を同50%向上した。... これにより露光時のムダ時間を表すオーバーヘッドを低減し、スループッ...
記号投影(キャラクタープロジェクション)を部分的に行う部分一括露光により、1時間当たりのウエハー処理枚数(スループット)を従来機比で5―10倍に向上。... 新技術採用...
従来機種に比べて、一時間当たりのウエハー処理枚数を表すスループットを、約15%増の148枚に高めた。 ... これにより、重ね合わせ精度を従来比14―17%向上するとともに、ス...
EUVの実用化が望まれる2013年ごろには、一時間当たりのウエハー処理枚数を示すスループットを、現在の10倍以上に向上しなければ量産への適用は難しい。IMECでは昨年、スループットが出力10ワットで1...
露光が2回なので、1時間当たりのウエハー生産枚数を示すスループットが半減し採算に乗せることが難しい。一つのチップの価格は数十円から数百円しかないため、1台40億―45億円するArF液浸露光装置を導入し...
i線は一時間当たりのウエハー生産枚数を表すスループットを上げる方向で開発を推進、引き続き力を入れていく。同248ナノメートルのフッ化クリプトン(KrF)露光装置もスループットを向上した...
米ダイレクト2シリコン(D2C)が開発中のソフトウエアと組み合わせて、一時間当たりのウエハー生産枚数を表すスループットを倍以上に高める。... 繰り返し性のある回路パターンを約100種...
現在は試作器を製作し、DMAのハイスループット化、質量分析計に導入するためのイオン化について、検討を進めている。
また現在、シークエンスキャプチャーアレイ(DNA濃縮アレイ)をユーザー評価中で、これが製品化されればゲノム解読のハイスループット化と低価格を実現する。
さらに2回露光するため、1時間当たりのウエハー生産枚数を示すスループットが半減、量産ではスループット向上が必要になる。