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フォトマスク(半導体回路の原版)を使わず描画するレーザーダイレクトイメージング(LDI)装置と同程度の価格に設定し、5年後に500台の出荷を目指す。 ...

日本企業はインクジェット印刷技術、ITI製造・技術、ラインや面蒸着設備・技術、パッケージング設備技術、フレキシブルデバイス製造プロセスロール・ツー・ロール技術、蒸着用フォトマスク技術などを有する。

フォトマスクやハードディスク用サスペンス用エッチング製品が減少した。

同技術はロール状のフォトマスクを回転させ、露光、現像する方式で、大面積のガラス基板にナノ構造を短時間で形成できる。

【市村産業賞功績賞】▽環境保護に寄与する鉛フリーはんだの開発と実用化(パナソニック、千住金属工業)▽スポットスキャニング粒子線治療システムの開発、実用化(日立製作所)&...

タムラ製作所が開発した絶縁インクはフォトマスクをつかうスクリーン方式。

フォトマスクは海外向けが比較的堅調で、この数カ月で戻ってきたようだ」 ―グローバル展開に向けた戦略は。

アジャイル・パッチ・ソリューションズはパワー半導体向けに特化したフォトマスク検査装置を開発、販売するベンチャー企業。

世界的に液晶テレビの販売が伸び悩んだほか、フォトマスクやハードディスク用サスペンションなど電子デバイスも落ち込んだ。

光リソグラフィーは細かい構造を書き込んだフォトマスクと呼ばれる「鋳型」を光によって大量にコピーする技術。

数年後に到来する回路線幅10ナノメートル台前半の半導体製造には不可欠とされるが、光源やフォトマスクなど周辺材料に課題もある。

フォトマスクなどの製造で培った研磨や洗浄、検査技術を応用し、シリコンに近い性質を持つ低膨張の特殊ガラスを加工する。

フォトマスクを用いるパターン状露光のフォトリソグラフィーやエッチングといった既存工法に比べて生産時間が最大10分の1になる。

その後、フォトリソグラフィー技術を使った細胞表面に傷を焼き付け、導電膜をはがす。... フォトリソグラフィーの応用により、数マイクロメートル(マイクロは100万分の1)の精度で複数の細...

フォトマスクを通して光を照射することにより、現像などの処理を必要とせずに表面の形状を変えることができる。現像が必要なフォトリソグラフィーや微小の鋳型を使うナノインプリント技術とは異なる簡単な微細加工法...

半導体向けなど高精細フォトマスクの伸びを予想する。

エッチングで使うフォトマスクや銅を溶かす溶剤、真空装置、銅の回収設備などがいらず、環境負荷も少なくなる。

直撃!ANALYST/総合電機 (2011/4/15)

ルネサスエレクトロニクスは1000万円以上するフォトマスクなども壊れている。

台湾ではフォトマスクの展開にも注力するなど、既存の印刷技術を武器に活躍の場を広げている。... 半導体フォトマスク分野では昨年4月、台湾の新竹サイエンスパーク内で新工場が稼働。... 「海外マーケット...

コンピューターグラフィックス(CG)と同様に仮想化した物体を計算し、フォトマスクを通した光で画像を結ぶ。... 同社は「フォトリフラクティブ材料」と呼ぶディスプレーに塗工する有機ポリマ...

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