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記事検索結果
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【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...
生産品目のEUV(極端紫外線)用フォトレジストが対韓輸出規制強化の対象となるなど、環境は変化している。
極端紫外線(EUV)光源など最先端プロセス向けの材料で、本格的な量産に至っておらず、そもそも韓国の半導体メーカーへの影響は少ないとみられる。
つくば工場(茨城県筑西市)に10億円投じ、新棟を増設し、車載用半導体などEUV(極端紫外線)向けターゲット材を増強する。 ... 19年中に着工、20...
EUV露光は10ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の回路線幅を加工できる最先端技術で、量産は世界で始まったばかり。韓国サムスン電子は7ナノメートルと5ナノメートルのプロセス開発を完...
例えば今回対象となるレジストは、極端紫外線(EUV)光源や電子線(EB)を露光手段に用いた製造工程向けの製品。... 半導体用レジスト大手のJSRはベルギーでEUVレジ...
化学各社は最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光工程向け素材の供給体制を整備する。... EUV露光を使った半導体の生産も始まっており、EUV材料市場...
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
『液浸露光』や『EUV(極紫外線)露光』などの技術を使う他社の装置に比べて安価なナノインプリント装置を育てていく」 【記者の目/再成長へ真価問われる】...
半導体チップの回路パターンの微細化に必要なEUV露光技術の需要拡大に対応する。... 生産能力を増やすのは「EUV露光用フォトマスクブランクス=写真」と呼ばれる部材。... EUV露光技術は「...
同社は長年の研究開発を背景に、EUVフォトレジストでは台湾大手ロジックのEUVプロセスにおいて50%以上のトップシェアを誇り、韓国大手メーカーのEUVプロセス向けでも高いシェアを獲得している。...
研究開発も充実させたい」 ―ベルギーに立ち上げた極端紫外線(EUV)用フォトレジストの合弁会社が、始動3年目を迎えます。 ... EUVレジストも、...
さらに極端紫外線(EUV)リソグラフィーなど次世代リソグラフィー向けの材料開発の評価装置としても訴求する。
電子事業は需要が見込める極端紫外線(EUV)露光用のフォトマスクブランクスの供給体制を拡充する。
旭硝子グループのAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)は5日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けにフォトマスクブランクスを増産すると発表した。
【EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」】 微細な半導体の回路パターン転写を可能にする極端紫外線(EUV)を使った次世...
【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/受注も好調】 超高真空下での極端紫外線(EUV)マスクブランクス欠陥の検査装置開発は初めて。
極端紫外線(EUV)用フォトレジストの量産を始めた。 実際、EUV露光装置の生産台数は年数十台。
