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記事検索結果
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凸版印刷は、米IBMと共同で回路線幅14ナノメートル(ナノは10億分の1)に対応した半導体フォトマスク製造プロセスの共同開発契約を結んだ。... 2012年中にIBMのバーリントン・フ...
【川越】テクノビジョン(埼玉県川島町、高比良葦人社長、049・299・1385)は半導体や液晶露光マスク用の洗浄装置「TWC―300=写真」を19日に発売する。... 同装置は...
大日印ではここ数年、液晶カラーフィルター向けで兵庫県姫路市や堺市堺区に、先端フォトマスク製造で台湾・新竹サイエンスパーク内にそれぞれ新工場を建設するなど「エレクトロニクス部門」の設備増強が続いていた。
フォトマスク事業が営業黒字化したほか、カラーフィルターも前年同期比約20%増収となるなど好調だった。 ... カラーフィルターが同42%増収と伸びる一方で、フォトマス...
旭硝子は6日、薄膜トランジスタ(TFT)液晶ディスプレー(LCD)製造に用いる大型フォトマスク用石英基板(写真)に参入すると発表した。... フォトマス...
半導体メーカーに発光ダイオード(LED)用のサファイアウエハーの評価や露光工程のフォトマスクのリサイクル評価を提案する。
凸版印刷は9日、朝霞フォトマスク工場(埼玉県新座市)内に米IBMと共同開発した回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)、20ナノメートル半導体向けフォトマスクの製...
ただ、1台100億円とも言われるEUVは開発費負担が大きく、光源やフォトマスクなど周辺材料の技術的課題も少なくない。
同装置はCADデータを基に直接描画するためフォトマスクが不要で、半導体や微小電気機械システム(MEMS)の製造開発での期間短縮やコスト削減が期待できる。
CGHの有力な作製手法の一つはフォトマスク作製技術を利用するもので、クロム膜のある石英ガラスに微細なパターンを描画。
階調マスクは石英ガラスの表面に位相を変調する領域に分布させる。... 同マスクは光を吸収する材料を用いない構造のため、レーザー耐性に優れ、使用回数に伴う劣化が小さいため、マスク寿命が長い利点もある。&...
ソノコムはプラズマディスプレーパネル(PDP)用フォトマスクの製造強化のため、新設備を導入する。... 一回の作業で50インチクラスのフォトマスクが6面(従来機は50インチクラ...
09年度の受注高の内訳はウエハー表面に回路パターンを焼き付けるためのフォトマスクを作成するマスク・レチクル製造用装置が同2・8倍の289億円と大幅に増加した。
東洋精密工業(奈良県橿原市、石井昌社長、0744・23・9160)は、本社工場でフォトマスクの生産能力を増強する。... 新たに1マイクロメートルマスクに参入、ミドルスペックのマスクで...
また、起業家賞は東洋スポーツ建設(千葉市若葉区)の「ヘルシークレーを用いた雨水貯留循環システムの提案」、ゼロユニット(東京都千代田区)の「裸眼・空中投影型立体映像システ...
アドバンテストは半導体フォトマスク用線幅測定電子顕微鏡(CDSEM)「E3610/E3620=写真」を自社ブランドで発売した。... 同装置は半導体フォトマスク上の微...
