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記事検索結果
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半導体の品質向上にスラリーで貢献したい」 ―極端紫外線(EUV)リソグラフィーの関連事業の立ち上げを検討しています。 「EUV光源を使ったフォトリソ...
現行の10ナノメートルチップと同じ「ロー・パワー・プラス(LPP)」プロセスで製造され、より微細な電子回路作製への適用が期待される極端紫外線(EUV)露光装置は使わない...
「ベルギーの研究機関IMECと設立した工場でEUV用フォトレジストの量産を始めた。... 特に評価されているのが、実際にEUV露光装置で品質を保証できる優位性。... インプリアはEUVを吸収しやすい...
また、従来の半導体検査用光源より波長が短い極紫外線(EUV)光源を世界で唯一製品化するなど、独自技術を持つ。 ... より短波長のエナジティックのLDLSやEUV光源...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、浦中克己社長、0285・28・8410)は、開発中の極端紫外線(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ&...
競争力を保つためにも、両拠点の増強が現実的だろう」 ―極端紫外線(EUV)による生産技術に向け、新たな材料も求められています。 「ベルギーの研究機関...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は極端紫外線(EUV)パイロット光源で稼働率80%以上の稼働率を確認した。現在開発中のEUVスキャナー用レ...
7ナノと同じように極端紫外線(EUV)のリソグラフィーを使いつつ、ナノメートルの厚みのシリコンシートにトランジスタを作り込み、それらを積層して高密度の集積回路を製造する手法にめどをつけ...
【横浜】レーザーテックは極端紫外線(EUV)を使った微細な半導体パターン転写に対応した量産用EUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査・解析装置「ABICS E1...
JSRとベルギーの研究機関であるIMECは2日、同国の合弁会社で極端紫外線(EUV)フォトレジストの量産製造設備が完成したと発表した。光源にEUVを使う露光装置向けのフォトレジストの量...
半導体露光用エキシマレーザー大手のギガフォトン(栃木県小山市、都丸仁社長、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(...
JSRとベルギーの研究機関IMECは22日、光源に極端紫外線(EUV)を用いる露光装置向けリソグラフィー材料を生産する合弁会社を設立したと発表した。... 合弁会社「EUVレジスト・マ...
極端紫外線(EUV)リソグラフィ向けフォトレジストの量産に備える。 ... ただ、光源の問題を抱えるEUV露光装置には実現を危ぶむ声も。
サプライヤーとしては北米プラス南米で考える必要があり、17―19年度の課題と捉えている」 ―半導体向けでは極端紫外線(EUV)による生産技術の前進を受け、露光材料の量...
17―19年度の次期中計でも、M&A(合併・買収)費用として現中計並みの4000億―5000億円を想定している」 ―半導体業界では極端紫外線(EUV&...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源で、出力108ワットの安...
JSRも極紫外線(EUV)露光材料の量産に向け動きだした。... 一方、JSRは年内をめどに、IMECと光源にEUVを用いる露光装置向けフォトレジストの合弁会社を設立する。最新のEUV...
EUVは光源の出力不足を解消できず、フッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)の延命で対応してきた。... EUV用のレジスト開発には、東京応化工業も積極的に取り組んでいる。 &...
ギガフォトン(栃木県小山市、0285・28・8410)は開発中の極端紫外(EUV)スキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源で、平均60ワットの24...
