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フォトマスクにレーザー光を照射するだけでヘイズの除去が可能。... フォトマスクにレーザー光を照射し、ヘイズをガス状物質に分解して除去する。... ヘイズの除去にはペリクルフレームを取り外してフォトマ...

半導体用フォトマスクなどの部門は受注が改善しつつあるが、単価下落や為替の影響で大幅減益。

フォトマスクやレジストなど周辺部材の開発も積極化。... IMECによるとフォトマスクの改良にはめどがついたというが、量産機出荷までに光源の出力を2―3倍に高めなければならない。

光源やフォトマスクなど周辺装置メーカーと研究開発・生産部門の関係をより密接にすることで、顧客が求める水準以上の成果を上げられるよう力を注いでいる。

富士フイルムは年末にかけてフラットパネルディスプレー(FPD)材料の生産量を4―6月期比で1割増、HOYAも液晶用フォトマスクを同1割以上伸ばす見通しだ。... HOYAは液晶ディスプ...

【横浜】レーザーテックは半導体部品の回路パターン原板となるフォトマスク用の欠陥検査装置「MATRICS X700シリーズ=写真」の受注を始めた。... 半導体設計ルール45ナノメートル...

光源の出力や安定性、フォトマスクなどの周辺技術の開発が完全には整わないと判断した。

HOYAは液晶パネル製造用のフォトマスク事業で中型品が好調。

提携内容は回路パターンを形成したマスターテンプレートを基に、はんこの原理でフォトマスクの代替品となるレプリカテンプレートを複製する装置を開発すること。

具体的には品質検査技術として、各種計測機器開発やフォトマスクの検査技術開発、ナノメートル(ナノは10億分の1)サイズの欠陥対応技術などに取り組む。

フォトマスクは低調だが、「液晶用カラーフィルターは数量が回復する」(山田雅義大日印副社長)と08年度下期の大幅な需要減少からの反転を見込む。

半導体フォトマスクの相模原工場は4月末で閉鎖。

半導体製造用フォトマスクや光学レンズ、メガネレンズなど主力事業が円高や景気減速の影響を受けて減収となった。

凸版印刷は21日、朝霞工場(埼玉県新座市)内に米IBMとの共同開発した回路線幅28ナノメートル(ナノは10億分の1)半導体向けフォトマスクの製造プロセスを構築したと発表...

半導体フォトマスクや液晶カラーフィルターのエレクトロニクス部門に加え、出版印刷や商業印刷などの主力事業も不振だった。... 半導体フォトマスクは08年夏ころから悪化したが、10月、11月から液晶カラー...

「超解像法を用いたフォトマスク欠陥検査装置」を開発した。

エスアイアイ・ナノテクノロジー(東京都中央区、北野進社長、03・6280・0070)は、回路線幅180ナノメートル(ナノは10億分の1)以上の半導体に対応できるフォトマ...

ウエハーやフォトマスク、液晶のガラス基板の表面に吸着して不良の原因となる化学物質との特定や汚染度の高精度で評価するもの。

また、半導体フォトマスクは両社とも4―9月期で減収になった。... カラーフィルターに次ぐ柱である半導体フォトマスクも低調だ。... フォトマスクは「09年の後半ころ」(凸版の副島専務)...

凸版印刷の08年4―9月期連結決算は、石化製品を中心とした原材料価格の高騰や半導体フォトマスクなどの需要減退の影響を受け営業減益となった。... 主にカラーフィルターとフォトマスクの需要減に対応するも...

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