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AGCがEUV露光用部材増産福島に新ライン、生産能力30%増（2023/4/28 素材・建設・環境・エネルギー）

AGCは27日、半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクスの生産能力について、2025年までに現在と比べ約30%増にすると発表した。... AGCでは17年に...

挑戦する企業/AGC(7)エレ、戦略事業の大黒柱に（2022/12/16 素材・医療・ヘルスケア）

半導体部材、技術革新に挑む全額出資子会社のAGCエレクトロニクス(福島県郡山市)が生産する半導体向けの極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランク...

AGC、来期目標を大幅に上方修正医薬CDMO拡大加速（2022/2/17 素材・医療・ヘルスケア２）

エレクトロニクス分野では、最先端半導体製造プロセス向け部材のEUVマスクブランクスで25年度に売上高400億円以上(現在百数十億円)を目指す。

AGC、EUV露光用部材の生産倍増 24年めど（2022/1/26 総合３）

AGCのEUVマスクブランクスは、ロジックとメモリー用半導体の両方に採用され、需要が増えている。... EUVマスクブランクスは低膨張ガラス基板に複数種類のコーティングを施した部材。... EUVマス...

沸騰・半導体市場素材各社の戦略(3)AGC、半導体関連を2倍超（2021/6/15 素材・医療・ヘルスケア）

EUVマスクブランクス、急拡大【数年で一変】 1985年の合成石英発売に始まったAGCの電子部材事業は、直近の数年で一変した。... 今や、この「EUVマスクブラ...

AGC、フォトマスクブランクス生産能力倍増 EUV露光用（2020/7/28 素材・医療・ヘルスケア）

AGCは27日、半導体の生産工程で用いる消耗部材の極端紫外線(EUV)露光用フォトマスクブランクス(写真)の生産能力を現状の2倍程度に引き上げると発表した。... EU...

第62回十大新製品賞/日本力賞レーザーテック（2020/2/20 電機・電子部品・情報・通信１）

レーザーテックは最先端の半導体加工技術である極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高感度に検出するEUV欠陥検査装置ACTIS「A150」を製品化した。 ....

EUVでパターン欠陥検出レーザーテック、マスク検査装置を製品化（2019/10/16 電機・電子部品・情報・通信２）

【横浜】レーザーテックは、半導体加工技術の極端紫外線(EUV)露光用マスクパターンの欠陥を高い感度で検出するEUV欠陥検査装置「ACTIS A150=写真」を製品化した...

第60回十大新製品賞/日本力(にっぽんぶらんど)賞−レーザーテック（2018/2/1 電機・電子部品・情報・通信２）

レーザーテックはEUV露光の実現に不可欠なEUVマスクブランクス(原版)の欠陥検査/レビュー装置「ABICS E120」を製品化した。 ... マス...

2017年十大新製品賞、増田賞にファナックなど−本社選定（2018/1/30 総合１）

【レーザーテック・楠瀬治彦副社長/受注も好調】超高真空下での極端紫外線(EUV)マスクブランクス欠陥の検査装置開発は初めて。

2017年第60回十大新製品賞（2018/1/4）

【レーザーテック/EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 ABICS E120】次世代露光技術の極端紫外線(EUV)を使っ...

レーザーテック、露光用原版の欠陥をEUV光で高精度検出する検査・解析装置を開発（2017/4/4 電機・電子部品・情報・通信１）

新製品はEUVマスクブランクスの多層膜内部にEUV光を照射し、欠陥によって散乱する光を検出して欠陥の有無を判定する。... 微細な半導体パターン転写が可能なEUVを露光に用いた技術だが、露光用原版のE...

旭硝子、米セマテックとパートナーシップを締結（2009/2/26）

半導体製造装置に用い、ハーフピッチ22ナノメートルを可能とする極端紫外線(EUV)露光装置用マスクブランクスの商業化を加速化させ、2013年ころの実用化を目指す。両社で欠陥のないEUV...