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記事検索結果
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これまでの微細化技術は、波長の短い光を出す露光装置の光源とそれに合わせたフォトレジストの開発がセットだった。... レジストメーカーがフォトレジストを開発するには露光装置などを自社でそろえる必要がある...
半導体の露光工程で利用するフォトレジストの需要が回復している。... 半導体製造用フォトレジストは、回路線幅を微細化するために短波長化してきた露光装置の光源に合わせて開発してきた。... 今年から本格...
このほど中期経営計画を策定したが、半導体の回路パターンを形成する露光装置市場の長期的な環境を慎重に見ている様子。 ... レンズと半導体ウエハーの間に水をはさんで微細化精度を高める液浸装置では...
収益の悪化していた精機事業は半導体露光装置の新製品が海外中心に引き合いが強く、13年3月期の売上高が2800億円(同86・5%増)、営業損益が10年3月期から866億円改善し2...
メモリー向けでは1台数億円の装置もあるが、市場の7割以上を占めるのは非メモリー向け。... テスターは露光装置などに比べ、不況になると半導体メーカーに投資を削られやすい製品。... 低価格装置市場をひ...
九州工業大学はマイクロ化総合技術センター(福岡県飯塚市)の露光装置など半導体製造装置を最新型に更新し、2010年度から利用を始めた。... 延べ床面積360平方メートルのクリーンルーム...
トプコンと伯東は26日、半導体パッケージ実装基板向けの投影型露光装置の開発と販売で業務提携すると発表した。... 実装基板の配線形成には原版であるマスクに基板を接触させるコンタクト方式の露光装置が多く...
ニコンが営業攻勢をかけるのはフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF)液浸の露光装置「S620」。半導体の回路パターンを2回以上に分けて転写して微細化する露光方式「ダブルパターニング」に...
ニコンが半導体に回路パターンを転写する露光装置で反転攻勢をかけようとしている。... 露光装置では精度とスループットは相反する関係にある。... 3月中旬、都内で開かれた露光装置の技術説明会。
同プラグラムは最先端の半導体回路形成技術であるEUV露光装置を用いて回路線幅22ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の微細パターン形成を実現するもの。
切削やボンディングなどの組み立て用装置が同81・7%増の832億円、検査用装置が同36・6%増の930億円、露光装置やエッチング装置などウエハープロセス用の処理装置が同19・9%...
【名古屋】新東工業は各種製造装置の駆動部として組み込むセラミックス製XYステージを6月1日に発売する。... 液晶ガラス基板の検査装置に採用した場合、第4世代(G4)の700ミリ...
線幅1マイクロメートルのマスク参入にあたって、本社工場で専用のレーザー式描画装置や洗浄装置を導入した。... 露光装置に組み入れて利用するもので、回路パターンを描いたマスクを通った光線をレンズで縮小し...
ニコンは17日、都内で露光装置に関する説明会を開き、回路線幅32ナノメートル(ナノは10億分の1)以下の最先端半導体製造ラインに採用されるフッ化アルゴンエキシマレーザー(ArF...
主に半導体製造装置を開発、製造する。... 半導体の回路微細化や3次元化などが進み、製造装置の開発も難易度が上がる。新鋭工場の必要性が高まっており、ニコンも熊谷製作所(埼玉県熊谷市)に...
すでに受注実績のあるニコン製の液晶露光装置に加え、温調装置や検査装置、搬送装置などの周辺機器を扱う。... 今後は中国メーカー向けに露光装置のほか、周辺機器の販売も検討する。 ... 中国の地...
同機種はニコンの半導体露光装置事業の戦略モデル。... 09年の半導体液浸露光装置のシェアはASMLが過半を握り、2位のニコンが39%。... また、露光装置事業の黒字化のけん引役とする。&#...
1台80億円程度とされる、光源に極紫外線(EUV)を使う次世代露光装置の導入などで製造コスト高が懸念されるが「直径450ミリメートルウエハーへの移行などで対応をしていきたい」(...
