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記事検索結果
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■微細化追求 見極め重要 半導体回路の微細化で欠かせない「極端紫外線(EUV)露光」の周辺工程で、日本の装置メーカーの存在感が増している。
企業が大幅な採用抑制を避けようとしているのは、一部の年齢層が極端に少なく人員構成の歪みを生んだ就職氷河期の反省がある。
富士フイルムは、極端紫外線(EUV)レジスト事業を本格的に立ち上げ、2024年までに世界シェア10%を目指す。
全自動ダイレクトイメージング(DI)露光装置の生産能力を従来比40%増にするほか、敷地内に新工場を建設してマスク検査用極端紫外線(EUV)光源部品の生産体制を構...
(微細化で優れる極端紫外線〈EUV〉露光装置が注目を集めるが)必ずしもEUVで製造した最先端の半導体だけが市場で求められているわけではない。
一方、コータ・デベロッパ(塗布現像装置)は極端紫外線(EUV)に対応した装置が必要となるなど、付加価値が高まっている」 ―米中貿易摩擦がもたらす影響を...
極端に言うと、どれだけ原材料価格のリスク自体が大きくても、この割合が小さければ調達コストのリスクとしては無視できる。
コンピューター上で設計した立体物を全自動で製造する――極端に言えば、装置と原料、設計図、製造条件が整えば、ボタン一つで誰でも、どこでも同じものを作ることができる。
国内の建設投資は年間50兆―60兆円はあり、需要が極端に減少するとは思わない」 ―新型コロナ感染拡大の影響は。
