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記事検索結果
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オランダのASML、ニコン、キヤノンの露光装置メーカー3社は32ナノメートルプロセスに向けた研究開発を、露光を2回実施する「ダブルパターニング」、純水より屈折率の高い溶媒を介して解像度を高める「高屈折...
これにより固定子の隔壁を厚くでき「半導体製造装置などで使う純水ポンプ用などの実用化へめどがついた」(千葉教授)という。 ... まず、09年中をめどに純水ポンプ用モーターを製品...
クラレアクア(東京都中央区、伊藤秀一社長、03・3517・3280)は、余剰汚泥減容システム「ゼクルス」と逆浸透(RO)膜を組み合わせ、化学工場からの化学物質を含んだ排...
また、汚水処理施設の未整備による水の汚染など、水の安全についても一層深刻化することが懸念されている。... しかも、その大半は氷河や地下水であり、人間が容易に使える水はたった0・01%しかない...
「超純水」での熱交換が可能で、半導体設備などで不可欠な温度コントロールに有効。 ... ステンレスは熱交換器の素材自体がイオン化して溶け出し、超純水ではなくなる。... チタンは超純水が使用で...
07年に量産が始まった同45ナノメートルプロセスの先端半導体は、投影レンズとウエハー間に純水を満たして屈折率を上げるArF液浸露光が採用された。 ... もうひとつは、純水より屈折率の高い溶媒...
半導体メーカーが07年に量産を始めた同45ナノメートルプロセスの先端半導体では従来のArFでは難しく、レンズとウエハー間に純水を満たして屈折率を上げる「ArF液浸」が採用されている。
最もクリーン度の高い洗浄用の純水は純粋装置で薬剤を除去して再利用する。これよりクリーン度の低い水も多段階で回収、再利用する一貫システムを同社グループで初めて導入しており、回収・再利用する水はすべて「飲...
【松山】三浦工業は松山市に3万5263平方メートルの用地を取得し、各種水処理装置製造工場(延べ床面積約1万1000平方メートル)とボイラの制御基板などの製造工場(同約6000平...
開口数(NA=明るさ)を上げるため純水の代わりに高屈折率液体を用いる方法は、32ナノメートルが実用化される2010年に間に合わない。同じく、光源波長を短くする極端紫外線(...
野村マイクロは、半導体や液晶関連向けの超純水装置で国内第3位で、RO膜を用いた水処理技術に強みを持つ。... 80年代から超純水プラント向けに膜の販売を始め、現在は海水・かん水淡水化にも力を注ぐ。.....
投影レンズとウエハー間に純水を満たすArF液浸露光装置は(顧客が同装置を使い製品の)量産に入るため、戦略上、大切な年になる。... 変わり目はシェアをひっくり返す機会と考えている」...
【松山】三浦工業は18日、薬品を使わない電気再生式純水装置「WIシリーズ=写真」を4月1日に発売すると発表した。電気分解で原水中のイオンを除去して高純度の純水を製造する。... イオンを除去す...
まずバイオテックオゾン製オゾン水生成装置の国内総販売代理契約を結び、業務用装置を5月に発売する。... 純水を電気分解し発生させた高濃度オゾンガスを水道水に溶解する間接電解方式を採用。水道水を直接電解...
海水・かん水淡水化プラントや超純水製造装置に使われる逆浸透(RO)膜は「高機能化で勝負する」と自信満々なのは東レ副社長で水処理・環境事業本部長兼水処理事業部門長兼生産本部長の日覺昭廣さ...
100キロパスカルの圧力下で純水の場合、完全に閉めた状態から2回転で毎分約1マイクロリットル(マイクロは100万分の1)、14回転で毎分約1ミリリットル流量調整が可能。
東レは中国で水処理事業を強化する。... 「08年度は成果を上げる年」(日覺昭廣副社長水処理・環境事業本部長兼水処理事業部門長兼生産本部長)とし、受注活動を積極化する。 ......