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記事検索結果
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露光装置メーカー3社のうちキヤノンは選定から漏れた。 ... エルピーダでは8月末までに、ASMLとニコンのArF液浸露光装置の技術評価を終える予定。... ■フッ化アルゴン(ArF&...
ルアグより10分の1のコストで生産でき、紫外・真空紫外で高い性能を持つことから、半導体製造装置で使う次世代露光装置で使う光学素子としての応用が期待できる。
露光装置など精機事業は減収減益で、露光装置出荷台数は半導体用22台(前年同期36台)、液晶用17台(同12台)。... 通期は半導体露光装置販売計画を7台減の125台に...
ニコンは6日、熊谷製作所(埼玉県熊谷市)と栃木ニコンプレシジョン(栃木県大田原市)に新棟を建設し、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置の生産能力を201...
キヤノンマーケティングジャパン(キヤノンMJ)の08年6月中間連結決算は、コンパクトデジタルカメラや半導体露光装置の落ち込みで減収減益だった。
オランダのASMLはフッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源にした半導体用の液浸露光装置「TWINSCAN XT1950i」を開発した。チップ上の回路線幅30ナノメートル...
【立川】ナノシステムソリューションズ(東京都多摩市、芳賀一実社長、042・339・8440)は、高価なグレースケールマスクなしに膜厚レジストの3次元加工ができる研究用露光装置「D―li...
量産では半導体回路をウエハーに焼き付ける露光工程に、フッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を用いた2回露光(ダブルパターニング)方を採用する方針。解像度を高めたArF液浸...
ダブルパターニングでは45ナノメートルプロセス品の量産に用いるフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を使用するため、従来技術を抜本的に変えずに対応できる。 ... さらに量産に向...
「回路をウエハーに焼き付ける露光装置の開発動向がカギを握りそう。32ナノメートルプロセスは今まで通り投影レンズとウエハーの間に純水を満たして解像度を上げるフッ化アルゴン(ArF)液浸露...
量産を始めた43ナノメートルプロセスは、露光装置に投影レンズとウエハー間に純水を用いて解像度を上げる液浸露光を用いている。一段と微細化した次世代半導体は、液浸での2回露光(ダブルパターニング&...
20ナノメートル世代では、フッ化アルゴン(ArF)エキシマレーザーを光源に用いた従来の露光装置では、微細な回路パターンを焼き付けられない。... さらに、事業的にはEUV露光装置の開発...
「回路をウエハーに焼き付ける露光が難しい。極端紫外線(EUV)を露光光源に用いる研究開発が進んでいるが、量産技術の確立までに時間がかかると思う。また、技術確立してもEUV露光装置の導入...
45ナノメートルプロセスで用いたフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置を用いるため、大がかりな装置開発がいらない。... さらに、量産段階で露光装置の生産性をいかに向上するかが問われる。...
製造でポイントとなる露光工程は、同30ナノメートルプロセス品では解像度を向上するため、ArF(フッ化アルゴン)液浸露光装置を用いる。同20ナノメートルプロセス品では露光を2回実施して微...
このとき、微細化した回路設計やトランジスタの構造開発などはインテルが手掛ければよいのだが、実際にウエハーに回路を焼き付けてトランジスタを形成するプロセス(製造工程)開発になると、半導体...
現在稼働しているオランダのASML製のArF液浸露光装置「1700i」1台に加えて、相模原事業場(神奈川県相模原市)からASML製の液浸露光装置1台を移設、直径300ミリメートルウエハ...
半導体露光装置メーカーは、次世代半導体の製造方法として研究開発を進めてきた「高屈折率溶媒を用いた液浸露光=用語参照」の開発を事実上断念した。... 半導体露光装置を事業化するのはキヤノンとニコ...
「半導体露光装置の受注は減少傾向に、逆に液晶露光装置は受注が拡大している」。... 一口に露光装置と言っても、回路をウエハーに焼き付ける際の露光光源ごとに装置性能と価格が異なる。... 半導体露光装置...
