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同社はEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからEUVペリクルの技術供与を受け、5月までに岩国大竹工場(山口県和木町)で生産設備の商業生産を開始した。
ASMLは双方を両立したEUVペリクルを開発。... それがASMLの戦略だろう」と話す。... 三井化学は、ASMLからライセンス契約を受け、EUVペリクルの生産設備を新設。
東京エレクトロンは8日、ベルギーの研究機関imecと蘭ASMLが共同で運営するオランダの研究所「imec―ASML共同高NA EUV研究所」に自社の最先端の塗布現像装置を導入すると発表した。同...
三井化学はEUV露光機を生産する蘭ASMLから技術供与を受け、同社から生産移管する形でフォトマスク保護膜「EUVペリクル」の商業生産を始めた。ASMLが認める三井化学の“正規品”以外を使い、露光機が故...
蘭ASMLは、21年12月期の売上高予想を、1月時点では前年比で2ケタ増収を目標としていたところ、同30%増に上方修正。
同製品の技術を持つEUV露光装置メーカーの蘭ASMLからライセンス提供を受け、生産する。... 今後、EUV露光装置の進化に合わせて、ASMLと協力し、EUVペリクルの技術改良に取り組む。 &...
最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検査や感光剤(レジスト)の塗布・現像など周辺装置分野では日本勢が高いシェアを持つ。
最も重要な露光装置は蘭ASMLが市場を独占するものの、検査や感光剤の塗布・現像など周辺装置分野では日本勢が高いシェアを持つ。
貿易法務部門と連携し、きめ細かな情報収集が必要となる」 【記者の目/ナノインプリントを軌道に】 半導体露光装置市場はキヤノン、ニコン、蘭ASMLの大手3社...
ただ、米アプライドマテリアルズや蘭ASML、米ラムリサーチといった他の世界トップ企業と比べると、営業利益率は最も低い。
三井化学は蘭ASMLとの間でEUV露光用フォトマスクの防塵カバー「ペリクル」のライセンス契約を結んだ。ASMLはEUV露光装置とEUV用ペリクルを開発した唯一の企業で、同社の開発した技術をもとに三井化...
三井化学は最先端の半導体微細加工技術である極端紫外(EUV)露光工程向け部材のライセンス契約を蘭ASMLとの間で結んだ。ASMLの技術をもとに、三井化学はEUV露光フォトマスクの防塵カ...
ニコンは露光装置とデジタルカメラの特許に対する訴訟手続きについて同社と蘭ASML、独カール・ツァイスSMTの3社が包括的和解で基本合意したと23日に発表した。
▽ベルト・サボナイエ社長はオランダのASMLに帰任▽交代理由=経営体制の強化、前任者の任期満了▽就任日=4月11日▽本社=東京都品川区北品川4の7の35(半導体露光装置...
ニコンは24日、同社の半導体露光装置の特許を侵害しているとして、蘭ASMLと独カール・ツァイスに対してオランダとドイツ、日本の3カ国で訴訟を提起したと発表した。
現状、ニコンは先端技術では蘭ASMLに完敗し、フッ化クリプトン(KrF)など旧式装置では低価格と短納期が強みのキヤノンに勝てない。
半導体製造装置事業では最大手の蘭ASMLへの対抗は難しいと判断し、最先端の液浸タイプのフッ化アルゴン(ArF)露光装置開発を大幅に縮小する。
(ブルームバーグ) サムスン電子は、18日、蘭ASMLや米 シーゲート・テクノロジー、 米ランバス、 シャープの株式を売却したと電子メールで発表した。&...
