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記事検索結果
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従来は研磨に用いる砥粒をスラリーとして供給していたが、遠心力でスラリーが切れたり摩擦熱がたまるなどで研磨速度を高められなかった。... これはスラリー式の12倍の研磨速度で、研削加工に匹敵する。
半導体製造の前工程向けのウエハー用研磨材(CMPスラリー)の増産などに232億円、後工程向けの銅張積層板などの増産に248億円を投資する。
この製造法を用いて、天然の増粘剤に比べて粘度が10―100倍と高いCNFスラリー、ガラス並みの透明度と寸法安定性を持つCNF連続シート、塗料やインキ、有機溶剤などに分散が容易なCNFパウダーといった各...
みつわポンプ製作所は化学的機械研磨(CMP)スラリーや酸などの流体物を移送する縦型自吸式ポンプ「マジカルポンプ」を発売した。
同社はウエハー研磨材のCMPスラリーもセリア系砥粒(とりゅう)を用いる最先端品に絞って展開する。セリア系スラリーは競合が少なく、半導体材料大手の昭和電工マテリアルズと両雄と言える存在。
酪農でのふん尿など泥しょう(スラリー)排せつ物処理システム(写真)を約1億円かけて開発、酪農家向けに発売した。... もう一つはスラリーをメタンガスで発酵させてバイオ発...
富士フイルムは米国拠点でCMPスラリー(研磨材)の生産や開発、現像液の高純度化などに向け、18年12月から3年間で約100億円を投資するなど、最先端半導体材料分野で攻勢を強めている。
従来の研磨ではダイヤモンドやセラミックスを混ぜた特殊な研磨剤スラリーが必要で、環境面で大きな負荷がかかっていた。... スラリーを使用した場合と比べて加工コストを約45%低減可能。スラリーを使...
昭和電工マテリアルズは8日、台湾と韓国の子会社で、CMPスラリー(写真)などの半導体材料の生産能力を増強すると発表した。... CMPスラリーについては、韓国子会社では2021年10月...
半導体や二次電池の需要増で、液中に固体粒子が分散した高濃度スラリーやナノ材料の簡易測定ニーズが高まっている。
原料にぶつけるビーズの大きさと分布、ミル撹拌回転数などの最適値を割り出し、ビーズ破片などの金属元素のスラリーへの混入を少なくした。
研磨の均一性、終点検出の正確さ、研磨で発生したスラリーを残さない洗浄機能の三つに重点を置き、開発を進めたい」 【記者の目/「総合型」へ脱皮する時期】 IT...
黄色粘着捕虫シート「ラスボスRタイプ」 大協技研工業 【日本力(にっぽんぶらんど)賞】=4件 ◇低燃費タイヤDUNLOP「エナセーブ...
主に半導体用材料であるCMPスラリー(研磨材)や、リチウムイオン電池電解液の固体成分を調べる用途などでの使用を想定する。
NITE法は炭化物の微細粉末を泥状にしたスラリーに炭化物繊維を浸したプリプレグシートを作り、それを重ねた中間素材プリフォームを成形。