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記事検索結果
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マスクブランクスはフォトマスク作成用のガラス基板材料で、同装置は目視では判別が難しい基板上の傷や突起などの欠陥を検査する。... そのため大型フォトマスクのパターンの微細化が急速に進み、検査工程を含む...
直接描画装置はフィルムやガラスの「フォトマスク」と呼ばれるパターン原版を使用しないのが大きな特徴だ。
アルバック成膜は半導体や液晶表示装置(LCD)向けのフォトマスク生成用ネガフィルム「マスクブランクス」の製造が主体。
本社工場敷地内に、半導体関連の各種マスクを製造する「テクノセンター」がある。... テクノセンターでは精度が高いガラスマスク、汎用性が高いスクリーンマスクを手がける。設計から製造まで一貫して請け負う強...
信越化学工業はフォトレジストやフォトマスク材料の生産増強に約200億円を投じ、15年度の設備投資額が約1400億円と7年ぶりの高水準になった。
露光時に使用するX線フォトマスクの製造技術を確立した1999年にはドイツ・カールスルーエ原子核研究所と共同研究を開始したほか、03年には栃木県の「フロンティア企業」、06年には経済産業省の「元気なモノ...
信越化学工業は18日、福井県越前市に半導体製造工程で使うフォトマスクブランクスの工場を新設すると発表した。... フォトマスクブランクスはシリコンウエハー上に回路を描画する際に回路の原版に使うフォトマ...
同フィルターの製造には、金属基板の上に感光性樹脂を塗り、フォトマスクを介してパターンを形成する露光と、電気鋳造を組み合わせた「フォトエレクトロフォーミング」技術を使用する。 ... ...
実際の露光と同じ波長13・5ナノメートル(ナノは10億分の1)のEUV光を利用し、フォトマスク内部の超微細な欠陥を3次元形状で観察できる。 ......
ミタニマイクロニクスは各種薄膜デバイス用フォトマスクやスクリーンマスク、メタルマスクを手がけるメーカー。... ■企業概要■▽所在地=東京都多摩市永山6の24の1▽社長=岩崎順次氏▽事...
大日本印刷(DNP)は半導体製造に使うフォトマスクの台湾生産子会社と、同業の米フォトロニクス(コネティカット州)台湾子会社を統合し、合弁会社を設立した。新会社の名称は「...
